http://chineseinput.net/에서 pinyin(병음)방식으로 중국어를 변환할 수 있습니다.
변환된 중국어를 복사하여 사용하시면 됩니다.
이시형,이해원,정상배,김응렬 漢陽大學校 自然科學硏究所 1996 自然科學論文集 Vol.15 No.-
노블락 레진은 반도체 미세 가공공정에 쓰이는 포토레지스트의 기본 물질로서 높은 열안정성과 에칭내성으로 인하여 상당한 산업적 중요성을 지니고 있다. 본 연구에서는 다양한 조건에서 m-cresol, p-cresol, formaldehyde로 노블락 레진을 합성하였으며, 노블락 레진을 광산발생제, 가교제와 배합하여 네가형 포토레지스트를 제조하고, i-line 노광장치를 이용하여 패턴형성실험을 수행하였다. 노광에 의한 가교반응은 FT-IR을 이용하여 측정하였다. Novolak resin is widely used in semiconductor microlithography and it has a considerably industrial importance due to its high thermal stability and etching resistance. In this experiment, we synthesized novolak resin with m-cresol, p-cresol and formaldehyde by condensation. Photoresist was formulated using novolak resin, photo acid generator(PAG), and crosslinker. Pattern formulation was carried out by using i-line exposing apparatus. Crosslinking reaction by exposure was measured by FT-IR.