기판온도가 전자비임으로 제작된 텅스턴 산화물박막의 화학적 안정성에 미치는 영향

이길동(Kil Dong Lee) 한국진공학회(ASCT) 1996 Applied Science and Convergence Technology Vol.5 No.4

전기적 착색 텅스텐 산화물박막을 전자비임 증착으로 제작하였으며 제작된 막의 화학적 안정성의 기판온도 의존성을 연구하였다. 실험결과로부터, 제작된 시료의 광학적 특성과 화학적 안정성은 강하게 기판온도에 의존하였다. 기판온도 80℃에서 제작된 WO₃막은 유기성 용액 0.6몰 LiCIO₄속에서 착색과 탈색이 반복되어도 가장 안정하였다. Electrochromic WO₃ films were prepared by using an electron -beam deposition method. The dependence of the chemical stability of film on the substrate temperature was studied. From the experimental results, The optical property and chemical stability of as-deposited films strongly depended on the substrate temperature. The WO₃ film prepared at a substrate temperature of 80℃ was found to be the most stable when subjected to repeated coloring and bleaching cycles in an organic 0.6M LiCIO₄ solution.

니켈산화물 박막의 전기적착색특성

이길동(Kil Dong Lee) 한국진공학회(ASCT) 1999 Applied Science and Convergence Technology Vol.8 No.2

니켈산화물 박막은 전자비임증착법에 의해 제작되었다. 막의 내구성조사를 위한 착색과 탈색은 순환 전압전류법으로 KOH 전해질속에서 반복 수행되었으며 퇴화된 막의 투과율은 가시광선 분광기로 측정하였다. X선 광전자분광에 의한 분석 결과 막의 낱알 내부보다 낱알표면에 많은 산소가 포함되어 있었다. 착색된 막의 열린회로기억성은 KOH전해질 속에서 약 400시간 정도였다. 막의 자체방전율은 충분히 산화시켜서 파장 550 ㎚에서 투과율을 측정하여 평가하였으며 자체방전율은 시간에 따라 다항식형으로 증가하고 400시간 후에 완전히 탈색되었다. KOH 전해질속에서 사이클이 반복된 막의 표면낱알의 형태는 변하였으며 3×10^(-4) mbar에서 제작된 시료가 막의 안정성이 좋았다. 전기적착색성을 설명하기 위해 띠이론이 논의되었다. Nickel oxide films were prepard by using the electron beam evaporation technique. Coloring and bleaching experiments for cyclic durability were repeated in KOH electrolyte by cyclic voltammetry. Visible spectrophotometry was used to assess the stability of the transmittance in the degraded films. X-ray photoelectron spectroscopy results showed that the grain surface are oxygen-rich compared to the grain interiors in a NiO film. Open circuit memory of colored films is about 400 hours in 1N KOH. The rate of self discharge was evaluated by measuring the transmittance at 550 ㎚ of a fully oxidized NiO film. The rate of self discharge was increased polynomially with time and the film is nearly bleached after about 400 hours. It was also found that the degraded film by repeated cycles in the KOH solution changed the grain shape of film surface. The film prepared under a vacuum pressure of 3×10^(-4) mbar was found to be rather stable when subjected to the repeated coloring and bleaching cycles in KOH electrolyte. Band theory applied to explain the electrochromic mechanism was discussed.

전기적 착색 니켈산화물 박막의 특성과 안정성

이길동(Kil Dong Lee) 한국진공학회(ASCT) 2000 Applied Science and Convergence Technology Vol.9 No.1

니켈산화물 박막을 전자살증착법으로 제작하고 제작조건 특히 기판온도가 막의 안정성에 미치는 영향을 연구하였다. 제작된 시료의 광학적 특성과 안정성은 강하게 기판온도에 의존하였으며 기판온도 l50~200℃에서 제작된 NiO막은 0.5몰 KOH 용액속에서 -0.6~+0.8 V 사이의 5000사이클 후 에도 안정하였다. 5000사이클 후 가창 우수한 전기적 착색인자는 기판온도 150℃에서 제작된 시료에서 얻어졌으며 착색인자는 착색효율 CE=-0.049 ㎠/mC, 광학적 밀도변화 △OD=0.88, 막에 주입된 전하 Q_(in)=-18.11 mC/㎠ 그리고 막속에 남아있는 전하 Q_(left)=l4.8 mC/㎠였다. Electrochromic NiO films were prepared by using an electron-beam deposition method. The influence of the preparation conditions, especially the substrate temperature, on the electrochemical stability of film was investigated. The optical properties and stability of as-deposited films strongly depended on the substrate temperature during deposition. The NiO film prepared at a substrate temperature of 150~200℃ was found to be the stable when subjected to 5000cycles in a 0.5 M solution of KOH between -6.0 and +0.8 V. The best electrochromic parameters after 5000cycles were obtained for samples with substrate temperature of 150℃. The obtained electrochromic parameters are CE=-0.049(λ=550 ㎚), △OD=0.88(λ=550 ㎚)㎠/mC, Q_(in)=-18.11 mC/㎠ and Q_(left)=14.8 mC/㎠.

졸겔 WO₃ 박막의 특성

이길동(Kil Dong Lee) 한국진공학회(ASCT) 2001 Applied Science and Convergence Technology Vol.10 No.1

WO₃ 박막은 졸겔방법으로 텅스텐 알코산화물 용액을 사용하여 마이크로 슬라이드유리와와 ITO 유리 기판위에 여러번 침적도포시켜 다층박막형으로 제작하였다. 첨적도포와 시료제조 공정인자가 박막의 구조, 광학적 및 전기화학적 특성에 미치는 영향이 연구되었다. 텅스텐 알코산화물 용액을 사용하여 증착속도를 0.005m s-¹ 로 하여 제작된 박막은 매우 균일하였으나 증착속도를 0.007m s-¹ 보다 크게 하여 제작된 시료의 두께는 상당한 변화를 보였다. 전기화학적 착색 실험결과 박막은 200℃보다 낮은 온도에서 열처리된 시료는 쉽게 착색이 되었다. 라더포드 후방산란법에 의해 착색된 시료에서의 K^+ 이온들은 막 속에 균일하게 분포되어 있었다. WO₃ films were multicoated on the microscope slide glass and ITO-coated glass using a tungsten alkoxide type solution by the sol-gel deposition process. The effect of dipping and processing parameters on the structure, optical and electrochemical properties of the film were also investigated. Coating using alkoxide solution was very uniformed for low dipping speed of 0.005 m/s, but thickness variations across the sample became apparent for dipping speeds greater than 0.007 m/s. Electrochemical coloration experiments showed that films fired at lower temperatures color more easily than film fired to >200℃. Rutherford backscattering spectroscopy studies revealed that K^+ ions were uniformly distributed throughout the WO₃ layer in the colored sample.

저가 Batch 형 온수 급탕시스템의 실험적 연구

이길동(Kil-Dong Lee),윤환기(Hwan-Gi Yoon),강용혁(Yong-Heack Kang),이내준(Rae-Joon Lee),오정무(P. Chungmoo Auh) 한국태양에너지학회 1985 한국태양에너지학회 학술대회논문집 Vol.- No.-

Black Chrome 태양광 선택흡수막의 표면분석

이길동(Kil Dong Lee),최영희(Young Hi Chea),오정무(Paul Chungmoo Auh) 한국태양에너지학회 1989 한국태양에너지학회 논문집 Vol.9 No.2

고온용 태양 선택흡수막의 제작

이길동(Lee Kil-Dong) 한국태양에너지학회 2008 한국태양에너지학회 논문집 Vol.28 No.1

Zr-O (Zr-ZrO2) cermets solar selective coatings with a double cermets layer film structure were prepared using a DC (direct current) magnetron sputtering method. The typical film structure from surface to bottom substrate were an Al₂O₃ anti-reflection layer on a double Zr-O cermets layer on an Al metal infrared reflection layer. Optical properties of optimized Zr-O cermets solar selective coating had an absorptance of α=0.95 and thermal emittance of ε=0.10 (100 ℃). The absorbing layer of Zr-O cermets coatings on glass and silicon substrate was identified as being amorphous by using XRD. AFM showed that Zr-O cermets layers were very smooth and their surface roughness were approximately 0.1∼0.2 ㎚. The chemical analysis of the cermets coatings were determined by using XPS. Chemical shift of photoelectron binding energy was occurred due to the change of Zr-O cermets coating structure deposited with increase in oxygen flow rate. The result of thermal stability test showed that the Zr-O cermets solar selective coating was stable for use at temperature below 350 ℃.

흑색 코발트 태양 선택흡수막의 열퇴화

이길동(Lee Kil-Dong) 한국태양에너지학회 2015 한국태양에너지학회 논문집 Vol.35 No.4

어머니가 지각하는 아동기 애착이 양육태도에 미치는 영향 : 우울의 매개효과 분석

이길동 ( Kil Dong Lee ) 한국어린이문학교육학회 2013 어린이문학교육연구 Vol.14 No.4

본 연구의 목적은 유아기 자녀를 둔 어머니가 지각하는 아동기 애착, 우울이 양육태도에 미치 는 직·간접 영향을 밝혀, 변인들의 관계 구조를 분석하는데 있다. 본 연구는 대구·경북에 거주하 는 유치원 및 어린이 집에 재학 중인 유아기 자녀를 둔 어머니 385명을 대상으로 아동기애착, 우울, 양육태도 도구를 활용하여 자료를 수집하였다. 그리고 AMOS 18.0 프로그램을 이용하여 자료를 분 석한 다음 유의수준 .05에서 통계적 유의성을 검증하였다. 연구의 결과는 다음과 같다. 첫째, 어머 니가 지각한 아동기 애착, 우울은 양육태도에 직접적인 영향을 미치는 것으로 나타났으며, 아동기 애착은 우울을 통해 양육태도에 간접효과를 가지는 것으로 나타났다. 둘째, 어머니가 지각한 아동 기 애착은 우울에 직접적인 영향을 미치는 것으로 나타났다. 끝으로 아동기 애착과 양육태도를 위 한 개입방법과 후속연구를 위한 제언을 제시하였다. The purpose of this study was to investigate structural relationships among the related variables of perceived by mothers. 385 mothers in Gyung-buk/Daegu Province completed questionnaires assessing childhood attachment, parental raising attitude and depression. The sample varianceconvariance matrix was analyzed using AMOS 18.0, and the maximum likehood minimization function(p<.05). The results of this study are as follows. First, the maternal childhood attachment, depress were significantly correlated with parental raising attitude. Second, the maternal childhood attachment, depression of perceived by mothers directly affects their parental raising attitude. The maternal childhood attachment of perceived by mothers indirectly affects their parental raising attitude. Third, maternal childhood attachment of perceived by mothers directly affects depression. Lastly, these results implicated intervention tactics for school adjustment and suggested possible future research.

제작조건이 전자비임으로 제작된 텅스텐산화물 박막의 전기화학적 퇴화에 미치는 영향

이길동(Kil Dong Lee) 한국진공학회(ASCT) 1998 Applied Science and Convergence Technology Vol.7 No.4

전기적 착색 텅스텐산화물 박막이 전자비임 증착법에 의해 제작되었다. 전자비임에 의한 막의 퇴화에 미치는 영향이 논의되었다. 진공도 10^(-4) mbar에서 제작된 막이 사이클 내구성 시험에 의한 결과, 가장 안정하였다. 황산 수용액에서 막의 퇴화는 진공도에 의존함을 보였다. 막두께는 산화와 환원전류 그리고 광학적 특성에 큰 영향을 미쳤다. 박막들 중에서 두께 5,000 Å의 시료가 사이클에 의한 내구성이 가장 안정하였다. 착색과 탈색이 반복되는 동안에 막의 퇴화의 근원은 막속에 이온의 누적 때문이며, 이로인해 산화와 환원전류가 감소하였다. 티타늄의 양이 약 10~15 mol% 함유된 텅스텐산화물 박막은 착색과 탈색사이클이 반복되는 동안 최소한의 퇴화가 일어나서 가장 안정하였다. 사이클이 반복되는 동안 최소한의 막 퇴화의 주 원인은 막속에 리튬이온의 포획위치 갯수의 감소에 있었으며 이로인해 막의 내구성이 증가하였다. The electro chromic WO₃ thin films were prepared by using the electron-beam evaporation technique. Flms prepared at a vacuum pressure of 10^(-4) mbar were found to be most stable during repeated potential cycles. The chemical stability of the film in aqueous solutions was also affected by the vacuum pressure during evaporation. The redox current and the optical properties of the degraded films were affected by the thickness of the film. The 5,000 Å-thick films were found to be most stable, undergoing the least degradation during the repeated coloring and bleaching cycles. The origin of the mechanism dominating the degradation during the repeated coloring and bleaching cycles was the accumulation of lithium in the film, which results in decreasing redox current. Tungsten oxide films with titanium content of about 10-15 mol% was found to be most stable, undergoing the least degradation during the repeated cycles. The origin of the mechanism dominating the least degradation during the repeated cycles was the reduction of lithium ion trapping sites in the films, which results in a increased durability.