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송재<SUP>松齋</SUP> 이우<SUP>李堣</SUP>의 사물인식과 사유세계
오용원(吳龍源) 한국국학진흥원 2018 국학연구 Vol.0 No.37
본고는 15C말부터 16C초반에 주로 안동에서 활동하며 영남학의 기틀을 다졌던 송재松齋 이우李堣(1469~1517)의 가학家學 전승과 사물인식 방법, 그리고 그의 사유세계를 평소 창작한 시문인 『송재선생문집』을 주텍스트로 삼아 분석한 글이다. 송재가松齋家의 선대는 진보현眞寶縣에서 세거하였고, 안동 풍산현豐山縣, 두루[周村] 등으로 이거했다가, 이계양李繼陽이 온계에 정착하였다. 온계에 정착하여 걸출한 명현들이 탄생하면서 영남의 대성 반열에 오를 수 있는 기틀을 마련하게 된다. 송재는 대과에 급제하여 환로의 길을 걸었지만, 관직에 재임한 기간이 오래되지 않은 편이다. 그는 형의 조졸早卒로 인해 가장家長을 자임하고, 집 근처에 강학 공간을 마련하여 어린 자질子姪들의 면학에 힘썼다. 결국 그의 학문적 독려에 퇴계와 같은 당대 거유巨儒를 비롯하여 현달한 문인, 학자가 배출되었다. 『송재선생문집』에서 주목할 만한 작품이 바로 「귀전록歸田錄」이다. 「귀전록」에는 관직에서 물러나 고향으로 돌아와 자연을 관조하며 자신의 감정을 진솔하게 토로한 작품이 수록되어 있다. 이 작품을 통하여 그의 사물인식 방법과 사유세계의 특성을 살펴볼 수 있다. 그는 어릴 때부터 학문을 수학하여 관직에 나아갔지만, 고향으로 돌아온 이후로 지난날 살아온 삶을 되돌아보면서 이미 늙고 병든 어리석은 사람이 되어버린 자신을 스스로 탄식하고 있다. 자신이 꿈꾸었던 환로의 길을 걸었지만, 고향으로 귀래하여 산수의 유상遊賞으로 자성하는 시간을 가지면서 은거하려는 의지를 보였다. 또한 시문詩文에 뛰어났던 그는 자연을 관조하며 활발한 창작활동을 하였다. 그리고 자신이 포착한 객관적 사물을 단순히 있는 그대로 평이하게 표현하는데 그치지 않고, 반드시 사물에 내재하고 있는 원초적인 이치를 감지하여 수양과 자성自省의 한 방편으로 삼았다.
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삼산<SUB>三山</SUB> 류정원<SUB>柳正源</SUB>의 삶과 사유세계
오용원(吳龍源) 한국국학진흥원 2020 국학연구 Vol.0 No.43
삼산三山 류정원柳正源(1703~1761)은 영조대英祖代에 대과에 급제하여 관계에 진출하였고, 중앙과 지방으로 출사出仕와 은거隱居를 반복했던 영남 남인의 대표적인 문인이자 학자였다. 20세 이전에는 주로 아버지 참판공의 문하에서 가학을 통해 수학하였다면, 20세 이후에는 아버지의 권유로 재종숙 용와慵窩 류승현柳升鉉(1680~1746)의 문하에 나아가 다양한 서적의 박람과 심오한 강론을 통하여 학문의 외연을 넓혔다. 대과에 급제한 이후 많은 관직이 재수되었지만 번번히 사직소를 올리고 고향에 머물며 독서, 저술, 회합, 유람 등을 하며 주로 학문에 주력하였다. 그는 지방 수령으로 자인 현감慈仁縣監, 통천 군수通川郡守, 춘천 현감春川縣監 등에 재임하며 선정을 베풀었고, 특히 향내 유생들을 대상으로 후학양성에도 힘썼다. 그는 주자朱子와 주자가 남긴 『주자대전朱子大全』에 대한 애착이 매우 강했다. 또한 그는 역학易學에 많은 관심을 가지고 관련 서적을 편찬하기도 하였다. 그는 유자로서 수기치인修己治人을 실천했던 인물이지만, 자아실현을 위한 궁극적인 목표는 환로보다 학문에 진력했던 전형적인 학자라고 할 수 있다. 그가 매번 관직이 제수될 때마다 환로에 나아가 현실에 적극적으로 대응하였다면, 더 높은 고관대작을 지낼 수 있는 기회를 얻을 수 있었을 것이다. 이런 기회에 순응하기보다 대부분 사직소를 올려 고향에 은거하며 학문수학과 후학양성을 통한 자아실현에 몰두하였다. 삼산은 40세 이후부터 산수 유람에 대한 관심이 매우 많았다. 그의 유산법은 다른 사람들이 쉽게 볼 수 없는 기이하거나 빼어난 경관을 보는 것이 좋은 유람이 아니라, 보통 사람들이 경유하는 곳(所共由)을 다니며 보통 사람들이 보는 경물(所共見)에서 스스로 현실에서 벗어나 태연하게 자신만이 홀로 터득할 수 있는 즐거움이 있는 것을 훌륭한 산수관山水觀이라고 여겼다. 그리고 유산을 통하여 각각의 경물에서 자연의 이치를 터득하고, 자연에서 자신만의 독득한 즐거움을 얻었다.
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한국산 올챙이골속(Scirpus Linne)식물의 도보
오용자 성신여자대학교기초과학연구소 1999 基礎科學硏究誌 Vol.17 No.-
The genus Scirpus in Korea was taxonomically reviewed based on morphological and anatomical charactrs. The morphological(length and width of stem,leaf,and leaf bract) and anatomical(shape of achene,leaf epidemal cell,cell wall,fiequency of stomatal complex,and subsidiary cell shape) characteristics on 16 taxa of Korean Scirpus were investigated using stereo-microscopy and scanning electron microscopy.As the results, a key to intrageric groups or species of the genus in Korea was provided. The illustations of each Korean taxa were prepared together with the detail scketch of the flower and achene. Furthemore the distributions of 16 taxa of the Korean Scirpus were clanified using Mapinfo program a powerful GIS technique for mapping.
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절단형 상승여현 스펙트럼에 의한 나이퀴스트 속도의 초과
오용선 연세대학교 전자정보통신연구소 1998 전자 정보 통신 논문집 Vol.3 No.1
본 논문에서는, 제2종 (1+D)²부분응답 시스템의 대역제한 여파기를 원하는 전송속도에 따라 한정함으로써 향상된 대역효융을 얻을 수 있는 새로운 모델을 제안하였다. 전송시스템의 스펙트럼을 나이퀴스트 속도 초과량만큼 절단하는 모델을 설정하고, 그 제반 특성을 시간영역 및 주파수영역에서 해석하여 기존의 시스템과 비교하였다. 제안된 시스템은 나이퀴스트 속도 이상에서 동작할 때, 그 고유의 속도융통성으로 보상하는 기존의 시스템에 비하여 우수한 성능을 나타낸다. 특히, 이러한 특성은 이전에 해석되었던 제1종 및 제4종 부분응답 시스템에 비하여 매우 효과적이어서, 속도융통성으로 약 26.6%까지 보상할 수 있었던 기존의 초과량을 약 40% 이상으로 향상시킬 수 있음을 확인하였다. 이는, 제2종 부분응답 시스템의 전달함수로 주어지는 상승여현 스펙트럼이, 동일한 양의 스펙트럼 절단에 대하여 그 주파수 성분이나 에너지의 손실을 효과적으로 상쇄한다는 사실에 근거를 둔다. 이를 입증하기 위하여, 설정된 모델의 사이드로브 상쇄효과를 보여주는 시간영역 해석과 그 실측패턴을 제시하고, 대역효율의 증가에 따르는 눈모양의 변화와 전송신호의 스펙트럼 특성을 실험으로 확인하였다
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吳勇錫 慶星大學校 1997 論文集 Vol.18 No.1
"Commerceology" is not commonly recognized scientific term, because it is not yet fully systemized. Thus, in this paper, commerceology is defined as a newly emerging science of commerce among nations and/or regions. The study objective of this new science is to be all phenomena in relation to the international and/or interregional flows of goods, services and money as commodities. To put it in the more concrete, commerceology is to be a theoretical and practical science of studying commercial relations among nations and regions, which includes international trade, finance, investment, negotiations on commerce, legal and institutional systems of international commerce, and regional studies on world and nations exerting effect upon global commerce environment. The reason this new science should be systemized is that traditional theories have come to lose their abilities to explain the rapidly changing phenomena in world commerce although commercial issues are highlighted in international relations of globalization. The globalization is accelerated especially in world production and marketing. This is caused by international. investments and that is by a rapid developments of sciences and technologies in information and communication. Such a globalization makes the traditional theory of static comparative advantage as the principle of international trade and competition draw back and asks a new theory of dynamic absolute advantage so as approach more comprehensively to world commercial issues. This paper focuses on four arguments for the systemization of "commerceology" so as to meet the demand for a new science in compliance with the growing importance of world commerce issues and with the expanded study realm of this field. The first argument is the conceptual establishment of commerceologyl. The second one is to present the logical grounds of bring into existence of this science. The third part consists of the major theoretical and policy frameworks. And the last argument is the methodology of this new science.
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오용호,이재철,이충훈 圓光大學校 基礎自然科學硏究所 1995 基礎科學硏究誌 Vol.14 No.1
Giga-bit DRAM 시대의 양산에 사용될 여러 가지 리소그래피 기술들의 현 상태 및 문제점을 최근의 보고 자료를 통하여 분석하였다. IG DRAM의 양산에는 ArF 에시머 레이저를 광원으로 사용하는 광리소그래피 기술이 사용될 가능성이 가장 큰 것으로 판단되며, 4G DRAM의 양산에는 X-선 근접 프린팅 방법이나 이온빔 투영 리소그래피 기술이 사용될 것으로 보인다. 그러나 4G DRAM 이후에 요구되는 집적도를 만족할 수 있는 양산용 리소그래피 기술은 현재까지 나오지 않고 있으며 따라서 16G DRAM 이후의 메모리 소자에 애해서는 새로운 리소그래피 기술의 개발이나 보다 큰 패턴으로 고집적을 달성할 수 있는 새로운 구조의 소지가 기대된다. We surveyed the current status and problems of the candidate lithography technologies for the giga-bit DRAM with recently reported results. We found that the photolithography technology with ArF excimer laser will probably be used for the mass production of 1G DRAM. Also, we showed that both X-ray proximity printing and ion beam projection technology meets the requirements fir the 4G DRAM. However, we could not find a workable solution for the lithography of DRAM's denser then four giga bit. Therefore, either a new breakthrough in lithography technology or a new device structure which yields higher density with larger pattern is required for 16G DRAM and beyond.
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