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- 저자 : 심하몽 ( Ha Mong Shim ) (검색결과 2 건)
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박영식,심하몽,나명환,송호천,윤상후,장근삼,Park, Young Sik,Shim, Ha-Mong,Na, Myung Hwan,Song, Ho-Chun,Yoon, Sanghoo,Jang, Keun Sam 한국통계학회 2014 응용통계연구 Vol.27 No.4
최근 휴대단말기 시장에서는 블루투스, GPRS, EDGE, 3GSM, HSDPA 등과 같은 높은 대역폭의 RF를 사용하고 있다. 높은 대역폭의 RF 영역에서는 높은 면저항(Sheet resistance)을 갖는 무전도 금속박막 코팅 방법이 사용되고 있는데, 기존의 무전도 금속증착은 사출물 세정, UV 하도 코팅, 금속증착, UV 중도 코팅, 상도 코팅 등 다수의 복합 공정으로 이루어져 있다. 특히 하도공정은 금속 증착(Sputtering)과 일괄 처리가 어려워 생산성이 낮고 생산원가 상승의 원인이기도 하다. 따라서 이를 극복하기 위하여 최근 Na 등 (2014)은 무전도 금속코팅에서 Primer 대체를 위한 전자빔의 표면처리의 가능성을 가능함을 보였다. In this paper, 플라즈마 생성 전자빔 소스(Plasma generated electron beam source)를 활용하여 PC/ABS 수지 사출물의 공정을 실험계획법에 의한 전자빔 조사 조건을 탐색하여, 즉, 수지 표면처리공정 조건을 탐색하여, 그 실험 결과를 분석하여, 진공전처리공정 개발 및 양산공정라인의 처리의 최적 조건을 찾고자 한다. High bandwidth RF such as Bluetooth, GPRS, EDGE, 3GSM, HSDPA is papular in the mobile phone market. A non-conducting metal coating process requires an e-beam deposition of metal, two steps of UV hard coating primer and top coating; however, it is inefficient. We navigate to the electron beam irradiation conditions(resin surface treatment conditions) in the PC/ABS resin injection process. By analyzing the experimental results, we find the optimum development conditions for the electro deposition pre-treatment process and mass production lines using the plasma generated electron beam source.
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일반품질연구 : 무전도 금속 증착을 위한 하전 입자빔 전처리 공정의 타당성 연구
나명환 ( Myung Hwan Na ),박영식 ( Young Sik Park ),심하몽 ( Ha Mong Shim ),전영호 ( Young Ho Chun ) 한국품질경영학회 2014 품질경영학회지 Vol.42 No.2
Purpose: Since several problems were found when present non-conducting metal coating process was appliedto mass production, we study and develop to improve those problems. Methods: In this paper, a couple of analysis methods such as surface hardness, XPS spectrum analysis, morphology,and reflection ratio were used. Results: This paper suggest a new possibility of Non-conducting thin metal coating method that has qualityof mass production phase without UV coating process. Conclusion: By the result of analysis, we can set optimized process conditions of the electro deposition coatingusing electron beam.
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