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연구 논문 : 전기화학적 마이크로머시닝 기술을 이용한 균일한 니오븀 표면 에칭 연구
김경민 ( Kyung Min Kim ),유현석 ( Hyeon Seok Yoo ),박지영 ( Ji Young Park ),신소운 ( So Woon Shin ),최진섭 ( Jin Sub Choi ) 한국공업화학회 2014 공업화학 Vol.25 No.1
본 연구에서는 micro-contact printing을 통하여 니오븀 호일 표면 위에 균일한 에칭 pits를 형성하였다. 균일한 보호층을 형성하고자 전해연마의 효과를 확인하였으며, 기존의 O2 플라즈마 공정 없이 손쉽게 균일한 에칭 pits를 형성시킬 수 있는 조건을 확인하였다. 메탄올 혼합 전해질을 사용하여 10 min 동안 에칭을 진행한 결과 니오븀 호일 표면 위에 지름과 간격이 각각 10 μm와 5 μm로 잘 정렬된 에칭 pits를 관찰하였다. We describe the preparation of highly-ordered etching pits on the Nb foil through a micromachining. The effects of electro-chemical polishing on the formation of uniformly-patterned protective epoxy layer was investigated. Unlike the previous proc-ess using O2 plasma, well-ordered etched pits were prepared without any dry processes. As a result, the Nb foil with the well-ordered pits of 10 μm × 5 μm could be obtained by electrochemical etching in methanolic electrolytes for 10 min.