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- 저자 : 서태수 ( Yoon Chang Park (검색결과 3 건)
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가수분해법에 의한 TiO<sub>2</sub> 피복 운모의 제조(I)
박윤창,김효중,곽중협,서태수,Park, Yoon-Chang,Kim, Hyo-Joong,Kwak, Chung-Heop,Suh, Tae-Soo 한국공업화학회 1997 공업화학 Vol.8 No.5
암모니아수를 이용한 가수분해법에 의해 운모의 이산화티타늄 피복을 시행하여 합성조건의 영향을 조사했다. 운모표면에 균일한 $TiO_2$ 피막을 얻기 위해서는 운모의 입자경이 작고 비표면적이 넓은 쪽이 유리하다. 또한 반응용액상에서 생선된 입자는 운모표면에 유리상태로 부착하여 피막을 불균일화시키므로, 용액상에서의 수화 $TiO_2$ 콜로이드 입자 생성속도를 느리게 제어할 필요가 있다. 본 실험에서 운모의 크기는 $14.7{\mu}m$, 운모 슬러리 용액의 pH는 2.5, $TiOSO_4$ 용액의 F.A.는 291, 반응온도는 $80{\sim}100^{\circ}C$ 정도가 적당하였다. 이상의 결과로부터 균일한 피복을 실현하기 위해서는, 반응온도를 변화시켜 입자의 석출율을 제어하는 일이 필요하다. 이 경우 석출율이 큰 쪽이 균일하고 치밀한 피막을 얻을 수 있었다. 이렇게 하여 얻어진 $TiO_2$ 피복 운모는 $900^{\circ}C$의 소성전후에서 형태에 큰 변화는 없었다. $TiO_2$ hydrate coating on mica in an aqueous solution of $TiOSO_4$ by the hydrolysis using ammonia water studied with emphasis on coating conditions for a uniform coating. For the uniform coating of $TiO_2$ film on mica surface, it was found that smaller mica particles were coated more uniformly compared to larger particles. It was necessary to suppress the rate of formation of hydrated $TiO_2$ particles in solution, which were deposited on mica and generate irregular coating. It was also necessary to control precipitation yield by varying the reaction temperature to obtain uniform coating. More uniform coating was obtained with higher precipitation yield. A uniform dense film was formed when mica particles of average size of $14.7{\mu}m$ is used for mica slurry solution, of which pH is 2.5, and the factor of acidity of $TiOSO_4$ solution is 291, and the solution was kept at $80^{\circ}C$ for 3 hours. The morphology of $TiO_2$ film formed on mica was little affected by firing at $900^{\circ}C$.
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박윤창,김효중,곽중협,서태수 ( Yoon Chang Park,Hyo Joong Kim,Chung Heop Kwak,Tae Soo Suh ) 한국공업화학회 1997 공업화학 Vol.8 No.5
암모니아수를 이용한 가수분해법에 의해 운모의 이산화티타늄 피복을 시행하여 합성조건의 영향을 조사했다. 운모표면에 균일한 TiO₂피막을 얻기 위해서는 운모의 입자경이 작고 비표면적이 넓은 쪽이 유리하다. 또한, 반응용액상에서 생성한 입자는 운모표면에 유리상태로 부착하여 피막을 불균일화시키므로, 용액상에서의 수화 TiO₂ 콜로이드 입자 생성속도를 느리게 제어할 필요가 있다. 본 실험에서 운모의 크기는 14.7㎛, 운모 슬러리 용액의 pH는 2.5, TiOSO₄ 용액의 F.A.는 291, 반응온도는 80∼100℃ 정도가 적당하였다. 이상의 결과로부터 균일한 피복을 실현하기 위해서는, 반응온도를 변화시켜 입자의 석출율을 제어하는 일이 필요하다. 이 경우 석출율이 큰 쪽이 균일하고 치밀한 피막을 얻을 수 있었다. 이렇게 하여 얻어진 TiO₂피복 운모는 900℃의 소성전후에서 형태에 큰 변화는 없었다. TiO₂ hydrate coating on mica in an aqueous solution of TiOSO₄ by the hydrolysis using ammonia water was studied with emphasis on coating conditions for a uniform coating. For the uniform coating of TiO₂ film on mica surface, it was found that smaller mica particles were coated more uniformly compared to larger particles. It was necessary to suppress the rate of formation of hydrated TiO₂ particles in solution, which were deposited on mica and generate irregular coating. It was also necessary to control precipita- tion yield by varying the reaction temperature to obtain uniform coating. More uniform coating was obtained with higher precipitation yield. A uniform dense film was formed when mica particles of average size of 14.7㎛ is used for mica slurry solution, of which pH is 2.5, and the factor of acidity of TiOSO₄ solution is 291, and the solution was kept at 80℃ for 3 hours. The morphology of TiO₂ film formed on mica was little affected by firing at 900℃.
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