[말씀과 마음] 하나님께서 기뻐하시는 예배

배성태 새가정사 2019 새가정 Vol.717 No.-

[말씀과 마음] 거짓이 없는 믿음의 사람

배성태 새가정사 2019 새가정 Vol.718 No.-

D.C 와 Pulsed D.C조건하에서의 Al - 1%Si박막금속화의 Electromigration현상에 관한 연구.

배성태,김대일,전국진,김진영 한국진공학회 1994 한국진공학회 학술발표회초록집 Vol.- No.-

절연보호막 처리된 Al - 1%Si박막배선에서 D.C.와 Pulsed D.C. 조건하에서의 electromigration현상에 관한 연구.

배성태(S. T. Bae),김진영(J. Y. Kim) 한국진공학회(ASCT) 1996 Applied Science and Convergence Technology Vol.5 No.3

절연보호막 처리된 Al-1%Si 박막배선에서 고정된 D.C. 및 Pulsed D.C. 조건하에서의 electromigration 현상과 도체수명특성에 대하여 조사하였다. 길이 21080㎛, 선폭 3㎛의 dimension을 갖는 meander type의 passivation layer(SiO₂/PSG)가 0.1㎛/0.8㎛의 두께로 절연막처리 되어있는 Al-1%Si 박막배선에 고정된 전류밀도 2×10^6A/㎠ 1×10^7 A/㎠의 D.C.와 200㎑, 800㎑, 1㎒, 4㎒의 주파수 범위를 가지며, duty factor 0.5인 2×10^6 A/㎠, 1×10^7 A/㎠의 전류밀도를 갖는 Pulsed D.C.를 인가하였다. 인가된 D.C. 및 Pulsed D.C. 조건하에서의 도체수명은 D.C. 보다는 Pulsed D.C.인 경우에 더 긴것으로 나타났고 전류밀도에 크게 의존하고 있음을 알 수 있었다.D.C 보다는 Pulsed D.C 조건하에서 도체수명이 더 긴 것은 duty cycle을 갖는 wave on-off형태의 Pulsed D.C.에서 pulsed off time시에 발생하는 박막배선 내부의 기계적, 전기적 stress gradient에 기인한 과잉 vacancy의 퇴화형성과정인 이완현상(relaxation phenomenon)으로 생각된다. 박막배선내부에 electromigration 현상에 의해 발생된 전기적 개방, 단락을 일으키는 결함에 대한 분석을 SEM(Scanning Electron Microscopy)을 이용하여 관찰하였다. electromigration에 의한 결함은 surface extrusion인 hillock과 depletion region에서 형성된 crack(void)의 형태가 대표적인 결함들로 나타나고 있음을 알 수 있었다. The electromigration phenomrla. and the characterizations of the conductor lifetime (Time-To-Failure, TTF) in Al-1%Si thin film interconnections under D.C. and Pulseu D.C. conditions were investigated. Meander type test patterns were fabricated with the dimensions of 21080㎛ length, 3㎛ width, 0.7㎛ thickness and the 0.1㎛/0.8㎛ (SiO₂/PSG) dielectric overlayer. The current densities of 2×10^6 A/㎠ and 1×10^7 A/㎠ were stressed in Al-1%Si thin film interconnections under a D.C. condition. The peak current densities of 2×10^6 A/㎠ and 1×10^7 A/㎠ were also applied under a Pulsed D.C. condition at frequencies of 200㎑z, 800㎑, 1㎒, and 4㎒ with the duty factor of 0.5. The time-to-failure under a Pulsed D.C.(TTF_(pulsed D.C.)) was appeared to be larger than that under a D.C. condition. It was found that the TTF under both a D.C. and a Pulsed D.C. condition largely depends upon the appiled current densities respectively. This can be explained by a relaxation mechanism view due to a duty cycle under a Pulsed D.C. related to the wave on off. The relaxation phenomena during the pulsed off period result in the decay of excess vacancies generated in the AI-1 %Si thin film interconnections because of the electrical and mechanical stress gradient. Hillocks and voids formed by an electromigration were observed by using a SEM (Scanning Electron Microscopy).

NiFeCo / Cu / NiFeCo / FeMn 스핀밸브 구조의 자기저항 거동 해석

배성태(Seongtae Bae),김진영(Jin Young Kim),민경익(Kyeong-Ik Min),신경호(Kyung-Ho Shin) 한국자기학회 1996 韓國磁氣學會誌 Vol.6 No.2

Magnetic and magnetoresistance behavior of NiFeCo /Cu /NiFeCo /FeMn spin valve multilayers prepared by sputtering has been investigated. Magnetoresistance of 6 % was obtained for a sample with 15 Å thick Cu interlayer. The exchange anisotropy field of a NiFeCo /FeMn spin valve was found to be very small, ~20 Oe, which is far smaller than that reported in NiFe /FeMn spin valves(> 100 Oe). The coercive field of a NiFeCo film deposited at 3 mTorr was ~10 Oe, which is far larger than that(~2 Oe) reported in NiFe films prepared under similar condition. Magnetoresistance curve exhibited an asymmetric magnetization reversal behavior presumably due to a small exchange anisotropy field and large coercive field.

자기저항 헤드용 Ni - Fe - Co / Cu / Ni - Fe-Co / Fe - Mn 다층박막의 자기적 성질에 관한 연구

배성태(S. T. Bae),신경호(K. H. Shin),김진영(J. Y. Kim) 한국진공학회(ASCT) 1995 Applied Science and Convergence Technology Vol.4 No.1

자기저항헤드용 Ni-Fe-Co/Cu/Ni-Fe-Co/Fe-Mn 다층박막에서 자기적 성질과 전기적 성질에 관하여 조사하였다. 저 포화자계에서 고 자기저항을 나타내는 스핀 밸브형 다층박막을 제작하기 위하여 Boron이 도핑된 p-type Si(100) 기판위에 Ni-Fe-Co 단층박막과 Si/Ni-Fe-Co/Cu/Ni-FeCo, Si/Ni-Fe-Co/Fe-Mn 구조의 다층막을 제작하여 자기적 특성을 조사하였다. Ni-Fe-Co단층박막의 자기적 특성은 고정된 아르곤 분압에서 박막의 두께 등에 의존성이 있는 것으로 나타났으며, Cu비자성층을 통한 두 자성층의 결합상태는 비자성층의 두께에 영향을 받는 것으로 나타났다. 또한 Si/Ni-Fe-Co(70 Å)/Fe-Mn구조에서 Ni-Fe-Co와 Fe-Mn계면에서의 두 자성층의 이방성 차이에 의해서 발생되어지는 교환자기이방성이 존재하였으며, 교환자기이방성자계값은 Fe-Mn 두께가 150 Å일 때 가장 큰 값을 나타내었다. Ni-Fe-Co texture와 교환자기이방성자계값의 의존성을 알아보기 위하여 Ti, Cu를 바닥층으로 사용하였다. Ti을 바닥층으로 사용하였을 경우, 교환자기이방성자계값은 23.5 Oe정도의 가장 큰 값을 나타내었다. XRD 분석결과, Ti 바닥층이 Cu 바닥층이나, 바닥층이 없는 경우와 비교하여 성막된 Ni-Fe-Co 자성층의 강한 fcc(111) texture를 형성하는 것으로 나타났다. 각각의 단층박막과 다층박막에서의 자기적 특성을 측정한 후, Si/Ti(50 Å)/Ni-Fe-Co(70 Å)/Cu(23 Å)/Ni-Fe-Co(70 Å)/Fe-Mn(150 Å)/Cu(50 Å)의 스핀밸브구조를 갖는 다층박막을 제작하였으며, 11 Oe의 낮은 포화자계값에서 4.1%의 고 자기저항값을 얻을 수 있었다. The magnetic and electrical properties in Ni-Fe-Co/Cu/Ni-Fe-Co/Fe-Mn multilayered thin films for magnetoresistive head have been studied. To obtain a spin valve type multilayered thin films with high magnetoresistance and low saturation field, we investigated the magnetic properties of Ni-Fe-Co soft magnetic single layered thin films and Si/Ni-Fe-Co/Cu/Ni-Fe-Co and Si/Ni-Fe-Co/Fe-Mn multilayered films. The magnetic properties of Ni-Fe-Co films depended upon the film thickness. The coupling between two ferromagnetic layers through Cu interlayer were affected by the Cu interlayer thickness. The exchange anisotropy existed in Si/Ni-Fe-Co(70 Å)/Fe-Mn multilayered thin films. The exchange anisotropy field showed the largest value at Fe-Mn=150 Å. Ti(hcp) or Cu(fcc) was also tried as a buffer layer in this structure. The exchange anisotropy field had the largest value of around 23.5 Oe in Si/Ti(50 Å)/Ni-Fe-Co(70 Å)/Fe-Mn(150 Å) structure. The result of XRD patterns showed that fcc(111) texture of Ni-Fe-Co magnetic layer were strongly developed in the films having Ti buffer layer. After measured the magnetic properties of soft magnetic single layered thin films and the multilayered thin films, we prepared the Si/Ti(50 Å)/Ni-Fe-Co(70 Å)/Cu(23 Å)/Ni-Fe-Co(70 Å)/Fe-Mn(150 Å)/Cu(50 Å) spin valved structure. The magnetoresistance change ratio showed 4.1% in the saturation field as low as 11 Oe in this structure.

B형 간염 표면 항원과 항체 양성률에 관한 조사 : 모 대학 신입생들을 대상으로

신남철,배성태,김선미,오세경,윤도경,조경환,홍명호,이창홍 대한가정의학회 1999 Korean Journal of Family Medicine Vol.20 No.6

유비쿼터스 게임을 위한 서비스 아키텍쳐 설계

이윤석,배성태 한국컴퓨터게임학회 2009 한국컴퓨터게임학회논문지 Vol.19 No.-

연면방전의 플라즈마 화학처리에 의한 유해가스제어 성능에 관한 연구 ( The Study of a Control Performance for Hazardous Gases by Surface Discharge Induced Plasma Chemical Process )

이주상,김광영,배성태,김신도 한국대기환경학회 1994 한국대기환경학회 학술대회논문집 Vol.- No.-

기업지배구조와 이익조정의 관련성에 대한 실증연구

박승식,장지인,정길채,배성태 한국회계정보학회 2006 회계정보연구 Vol.24 No.1

본 연구에서는 분식회계의 원인이 기업경영자나 실질적인 지배자의 입장에서 서로 상충되는 목적을 달성하기 위해 노력하는 과정에서 나타나는 불합리한 현상으로 보고, 그 주요한 원인이 재무보고목적과 세무보고목적의 차이에서 기인한다고 가정하고 있다. 이런 두 가지의 목적을 달성하려는 노력을 반영한 측정치가 회계이익과 과세소득의 차이라고 보고, 기업의 소유주가 직․간접적으로 통제․경영하고 있는 우리나라의 경우 기업의 지배주주가 회계이익과 과세소득의 차이에 어떤 형태로든 영향을 미치게 되리라고 가정하고 있다. 본 연구에서는 기업의 지배구조가 재량적 발생액에 미치는 영향을 살펴보았고, 회계이익과 과세소득의 차이(BTDIFF)에 미치는 영향을 살펴보았다. 연구대상은 IMF이후인 1999년부터 2002년까지의 기간 동안에 상장되어 있던 상장제조업을 대상으로 사업보고서상의 법인세등명세서에 과세표준 자료를 공시한 기업으로 한정하였다. 연구결과는 다음과 같다. 첫째, 기업의 지배구조(대주주1인 지분율)는 재량적 발생액과 유의한 양(+)의 관련성이 있는 것으로 조사되었다. 즉, 기업의 대주주지분율이 증가할수록 경영자는 자본시장의 압력보다는 지배주주 입장에서의 정치비용 감소를 추구하거나 자기이익을 극대화하기 위해 재량적 발생액을 증가시키고 있는 것으로 해석할 수 있다. 둘째, 기업의 지배구조(대주주1인의 지분율)는 회계이익과 과세소득의 차이에 양(+)의 영향을 미친다. 즉, 우리나라의 경우 대부분이 소유경영자라서 대주주지분율이 증가한다는 것은 소유경영자의 지분이 증가하므로 당해 기업의 경영에 대한 영향력이 커질 것이므로 대주주들의 이윤추구행위들이 나타난다고 할 수 있다. 이와 같은 결과는 대주주1인의 지분율이 증가함에 따라 재량적 발생액이 증가하여 결국은 회계이익과 과세소득의 차이에 양(+)의 영향을 미친다고 해석할 수 있다. 다시 말하면, 대주주1인의 지분율이 증가할수록 재량적 발생액을 통한 이익조정행위가 증가하는 것으로 이는 우리나라의 경우 대주주가 사실상 기업을 통제경영하고 있어서 대주주의 재무제표 작성과정에 적극적으로 개입하는 것을 의미하며, 이는 소수주주들의 이익을 침해하는 것이다. 정치적 비용이나 조세비용을 부담하면서도 이익을 조정하려는 동기가 많다는 것이다. 이와 같은 행동은 결과적으로 재무제표 공시의 투명성이 부실하기 때문에 소수투자자들의 이익에 부정적인 영향을 미칠 수 있게 될 것이다. 재량적 발생액이나 회계이익-과세소득의 차이가 증가할수록 지배주주들의 이윤추구행위가 증가할 것이므로 이에 대한 이해를 전제로 관련 이해관계대상자들은 의사결정을 하여야 할 것으로 보인다.