RISS 학술연구정보서비스

검색
다국어 입력

http://chineseinput.net/에서 pinyin(병음)방식으로 중국어를 변환할 수 있습니다.

변환된 중국어를 복사하여 사용하시면 됩니다.

예시)
  • 中文 을 입력하시려면 zhongwen을 입력하시고 space를누르시면됩니다.
  • 北京 을 입력하시려면 beijing을 입력하시고 space를 누르시면 됩니다.
닫기
    인기검색어 순위 펼치기

    RISS 인기검색어

      검색결과 좁혀 보기

      선택해제

      오늘 본 자료

      • 오늘 본 자료가 없습니다.
      더보기
      • 무료
      • 기관 내 무료
      • 유료
      • KCI우수등재

        Growth studies of chromium thin films using real - time spectroscopic ellipsometry

        이용달(Yongdal Lee),정지용(Jiyong Jung),방경윤(Kyoungyoon Bang),오혜근(Hyegeun Oh),안일신(Ilsin An) 한국진공학회(ASCT) 1999 Applied Science and Convergence Technology Vol.8 No.3(2)

        고속 실시간 분과 엘립소미트리를 이용하여 크롬 박막의 성장을 연구하였다. 이 장비는 1.3 eV에서 4.5 eV에 걸쳐 512개의 {Δ(hV), Ψ(hv)}를 가진 스펙트럼을 20 msec 이하의 속도로 연속하여 측정할 수 있는데, 크롬 박막 성장에 적용하였을 때 박막의 성질뿐만 아니라 공정과정에 관련된 정보까지 얻을 수 있었다. 각기 다른 증착조건에서 증착률 및 광학적 특성의 시간적 변화를 구할 수 있었으며 공정에서 대기 노출로 인한 오염과정을 보여줄 수 있었다. High speed real-time spectroscopic ellipsometry was employed in order to characterize the growth of chromium thin film. This instrument can collect 512 points of {Δ(hv), Ψ(hv)} spectra from 1.3 to 4.5 eV with acquisition and repetition rates of 20 msec or less. When this instrument was integrated into the chromium thin film growth, we could obtain not only the information on film properties but also the details of the processes. We deduced the growth rates and the evolution of the optical properties of chromium thin films under several preparation conditions. We also demonstrated the contamination process of chromium thin films caused by air exposure.

      연관 검색어 추천

      이 검색어로 많이 본 자료

      활용도 높은 자료

      해외이동버튼