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김한기(Kim Han-Gi),이석형(Seok-Hyoung Lee),윤화묵(Yoon Hwa-Mook) 한국콘텐츠학회 2007 한국콘텐츠학회 종합학술대회 논문집 Vol.5 No.2_1
지적재산권의 중요성이 커지면서 특허 검색을 이용하는 일반 사용자의 숫자가 늘어나고 있다. 일반적으로 한 두 개의 키워드만을 사용하는 일반 사용자의 검색 패턴을 고려할 때, 대량의 특허 문서에서 원하는 검색 결과를 찾는 일은 쉽지 않은 일이다. 이에 모든 특허 문서에서 제공되는 국제 특허 분류(IPC) 정보를 사용해서 사용자의 검색 결과를 클리스터링하여 보여주어 사용자가 검색하고자 하는 검색범위를 손쉽게 제한 할 수 있도록 도외주어 원하는 결과를 좀 더 빠르게 찾을 수 있는 특허 검색 시스템을 소개하고자 한다. The importance of intellectual property right becomes larger and the number of the person who uses a patent search is increasing. When considering the search pattern of the general user who uses only one or two search terms, it is not easy task to find desirable search result in the massive patent documents. So we present patent search system based on IPC Clustering which helps users confine the search result by using international patent classification (IPC) which provided from all patent documents. By using this system, the general users can find patent search result more effectively.
코발트 산화물 박막을 이용한 박막형 슈퍼 캐패시터의 제작 및 특성평가
김한기,임재홍,전은정,성태연,조원일,윤영수,Kim, Han-Gi,Im, Jae-Hong,Jeon, Eun-Jeong,Seong, Tae-Yeon,Jo, Won-Il,Yun, Yeong-Su 한국재료학회 2001 한국재료학회지 Vol.11 No.5
코발트 산화물 박막을 전극으로 하여 Pt/Ti/Si 기판위에 Co$_3$O$_4$/LiPON/Co$_3$O$_4$로 구성된 전고상의 박막형 슈퍼캐패시터를 제작하였다. 각각의 Co$_3$O$_4$박막은 반응성 dc 마그네트론 스퍼터를 이용하여 $O_2$/[Ar+O$_2$] 비를 증가 시키며 성장시켰고, 비정질 LiPON 고체전해질 박막은 순수한 질소분위기 하에서 rf 스퍼터링으로 성장시켰다. 비록 벌크 타입의 슈퍼캐패시터에 비해 낮은 전기용량 (5-25mF/$\textrm{cm}^2$-$\mu\textrm{m}$)을 가졌지만, Co$_3$O$_4$/LiPON/Co$_3$O$_4$ 구조로 제작된 전고상 박막형 슈퍼캐패시터는 벌크 타입과 비슷한 거동을 나타내었다 0-2V의 전압구간, 50$\mu\textrm{A}/\textrm{cm}^2$의 전류밀도에서 약 400사이클 까지 안정한 방전용량을 유지함을 관찰할 수 있었다 이러한 전고상 박막형 슈퍼캐패시터의 전기화학적 특성은 $O_2$/[Ar+O$_2$] 비에 의존하는데, 이러한 의존성을 구조적, 전기적 특성 및 표면특성을 분석하여 설명하였다. An all solid-state thin film supercapacitor (TFSC) with Co$_3$O$_4$/LiPON/Co$_3$O$_4$ structure was fabricated on Pt/Ti/Si substrate using Co$_3$O$_4$ thin film electrode. Each Co$_3$O$_4$ film was grown by reactive dc reactive magnetron sputtering with increasing $O_2$/[Ar+O$_2$] ratio. Amorphous LiPON electrolyte film was deposited on Co$_3$O$_4$/Pt/Ti/Si in pure nitrogen ambient by using reactive rf magnetron sputtering. The electrochemical behavior of the Co$_3$O$_4$/LiPON/Co$_3$O$_4$ multi-layer structures exhibits a behavior of a bulk-type supercapacitor, even though much lower capacity (from 5 to 25 mF/$\textrm{cm}^2$-$\mu\textrm{m}$) than that of the bulk one. It was found that the TFSC showed a fairly constant discharge capacity with a constant current of 50 $\mu\textrm{A}/\textrm{cm}^2$ at the cut-off voltage 0-2V during 400 cycles. It is shown that the electrochemical behavior of the Co$_3$O$_4$/LiPON/Co$_3$O$_4$ TFSC is dependent upon the sputtering gas ratio. The capacity dependency of electrode films on different gas ratios was explained by different structural, electrical, and surfacical properties.
김한기,성태연,Kim, Han-Gi,Seong, Tae-Yeon 한국재료학회 1999 한국재료학회지 Vol.9 No.10
Low resistance ohmic contacts to the Si-doped $\textrm{In}_{0.17}\textrm{Ga}_{0.83}\textrm{N}$(~$\times10^{19}\textrm{cm}^{-3}$) were obtained using the W metallization schemes. Specific contact resistance decreased with increasing annealing temperature. The lowest resistance is obtained after a nitrogen ambient annealing at $950^{\circ}C$ for 90 s, which results in a specific contact resistance of $2.75\times10^{-8}\Omega\textrm{cm}^{-3}$. Interfacial reactions and surface are analyzed using x-ray diffraction and scanning electron microscopy (SEM). The X-ray diffraction results show that the reactions between the W film and the $\textrm{In}_{0.17}\textrm{Ga}_{0.83}\textrm{N}$ produce a $\beta$-$W_2N$ phase at the interface. The SEM result shows that the morphology of the contacts is stable up to a temperature as high as $850^{\circ}C$. Possible mechanisms are proposed to describe the annealing temperature dependence of the specific contact resistance. Si 도핑된 n-$\textrm{In}_{0.17}\textrm{Ga}_{0.83}\textrm{N}$($1.63\times10^{19}\textrm{cm}^{-3}$)에 W을 이용하여 낮은 접촉저항을 갖는 Ohmic 접촉을 형성시켰다. 열처리 온도를 증가시킴에 따라 비접촉 저항이 낮아졌으며, 가장 낮은 비접촉 저항은 $950^{\circ}C$의 질소분위기 하에서 90초간 열처리 해줌으로써 $2.75\times10^{-8}\Omega\textrm{cm}^{-3}$의 낮은 비접촉 저항값을 얻었다. 열처리 온도증가에 따른 $\textrm{In}_{0.17}\textrm{Ga}_{0.83}\textrm{N}$와 W의 계면반응과 W의 표면은 XRD와 SeM을 이용하여 분석하였다. XRD 분석을 통하여 W과 $\textrm{In}_{0.17}\textrm{Ga}_{0.83}\textrm{N}$이 반응하여 계면에 $\beta$-$W_2N$ 상을 형성시킴을 확인할 수 있었다. SEM 분석결과 W 표면은 $850^{\circ}C$의 높은 열처리온도에서도 안정한 상태를 유지하였다. W과 InGaN의 Ohmic 접촉에 있어 비접촉 저항은 열처리 온도를 증가시킴에 따라 낮아지게 되는 온도 의존성을 갖는데 이에 대한 가능한 기구를 제시하였다.
일리노이 록스타 해석환경을 활용한 충격파관 내 금속패널 변형의 유체 구조 연성 해석
신정훈(Jung Hun Shin),사정환(Jeong Hwan Sa),김한기(Han Gi Kim),조금원(Keum Won Cho) 대한기계학회 2017 大韓機械學會論文集A Vol.41 No.5
컴퓨팅 아키텍처와 응용 소프트웨어 기술의 발달로 최근에는 근사가 아닌 실제 물리계 모사라는 컴퓨터 시뮬레이션의 궁극 목표가 현실 이슈로 대두되고 있다. 본 논문에서는 미국 정부 주도 슈퍼컴퓨팅 기반 다물리 시뮬레이션 사업의 결과물로 나온 일리노이 대학의 일리노이 록스타라는 유체-구조-연소 연성 해석툴을 활용하여 충격파관 내의 금속판의 미소 시간 운동을 전산모사하고 기존 실험, 해석들과 비교하는 연구를 수행하였다. 전산유동해석은 정렬격자를 기반으로 하였고 구조해석은 대변형 선형탄성을 가정하였다. 또한 강한 연계 시간적분법이 적용된 알고리즘의 고도화로 인해 충격파 내 금속패널에 관한 높은 수준의 실험-계산 상관성을 보였다. 본 연구의 제한적인 검증연구를 확장하여 해석환경내 추가 모듈들의 검증작업들과 코드개선을 통해 오픈소스 기반 연구개발 도구로서 활용할 예정이다. As the recent development of computing architecture and application software technology, real world simulation, which is the ultimate destination of computer simulation, is emerging as a practical issue in several research sectors. In this paper, metal plate motion in a square shock tube for small time interval was calculated using a supercomputing-based fluid-structure-combustion multi-physics simulation tool called Illinois Rocstar, developed in a US national R amp; D program at the University of Illinois. Afterwards, the simulation results were compared with those from experiments. The coupled solvers for unsteady compressible fluid dynamics and for structural analysis were based on the finite volume structured grid system and the large deformation linear elastic model, respectively. In addition, a strong correlation between calculation and experiment was shown, probably because of the predictorcorrector time-integration scheme framework. In the future, additional validation studies and code improvements for higher accuracy will be conducted to obtain a reliable open-source software research tool.