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소프트웨어 개발 및 관리 체계(SDMS) 정립에 관한 연구
김명욱(Y.W.Kim),이영순(Y.S.Lee),이상돈(S.D Lee),허문행(M H.Huh),묵현상(H S.Mook),한상학(S.H Han),옥정옥(J O.Ok) 한국정보과학회 1987 한국정보과학회 학술발표논문집 Vol.14 No.2
본 논문에서는 경영정보 처리 소프트웨어(BDPS, Business Data Processing Software)를 대상으로 하여 프로젝트 관리, 프로젝트 계획, 소프트웨어 개발, 품질보증, 그리고 시스템 운용 등의 일련의 이론체계를 유기적으로 결합하여 소프트웨어 공학적 표준체계로 정립한 “소프트웨어 개발 및 관리 시스템(SDMS)”에 대하여 기술하였다. SDMS에서는 프로젝트 계획/관리, 소프트웨어 개발, 품질보증 등의 이론체계가 상호작용함으로써 소프트웨어를 개발하기 위한 일련의 과정이 일관성을 유지하도록 하였으며, 시스템 운용체계에서는 개발된 소프트웨어를 체계적인 관리통제 하에서 운용/유지보수하도록 하였다.
박경현,변영태,김명욱,김선호,최상삼,조욱래,박승한,김웅,Park, K. H.,Byun, Y. T.,Kim, M. W.,Kim, S. H.,Choi, S. S.,Cho, W. R.,Park, S. H.,Kim. U. 한국광학회 1997 한국광학회지 Vol.8 No.2
가로.세로의 비가 큰 광도파로 소자 제작용 마스크 제작에는 레이저 리소그래피 장치가 기존의 리소그래피 장치에 비해 비용면 등을 고려하면 많은 장점을 가지고 있다. 레이저 리소그래피 장치를 이용 보편적인 양극형 마스크는 물론 기존의 레이저 리소그래피 장치로는 제작하기에 많은 어려움이 있는 음극형 마스크를 포토레지스트의 인위적 변화를 이용 제작할 수 있었다. 제안된 방법은 주변환경 즉 먼지, 장치의 진동 그리고 레이저 입사광 변화 등에 기존의 장치 보다 덜 민감함을 실험적으로 확인하였다. 이 방법을 이용 광도파로 소자의 기본을 이루는 S형태 곡선으로 구성된 광분배기 패턴을 제작하였으며, 제작된 패턴의 대비 및 재현성에 있어서 그 특성이 매우 우수함을 실험적으로 확인하였다. Most conventional lithography systems have been oriented to fabricate electronic devices. Therefore, it is not so easy to fabricate large aspect ratios of waveguide patterns with those systems. When considering costs and efficiencies, a laser lithography system provides number of benefit in realizing waveguide patterns. However, because the conventional laser lithography system could make only positive tone masks, it is inconvenient in determining the direction of the waveguide. A simple and reliable technique to produce negative tone masks was developed by using the laser beam writing. This technique was not sensitive to environmental situations such as dust, vibration, intensity variation. Making use of the technique a variety of device patterns such as Y-branch, directional coupler, and highly smooth S-shape bend could be successfully fabricated with a good contrast.