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Contribution to Green Power Technology Through Electrical Insulating Materials Research
Ohki, Yoshimichi The Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers 2010 p.149-154
Contribution to Green Power Technology Through Electrical Insulating Materials Research
Yoshimichi Ohki 한국전기전자재료학회 2010 p.149-154
Progress of High-k Dielectrics Applicable to SONOS-Type Nonvolatile Semiconductor Memories
Tang, Zhenjie, Liu, Zhiguo,Zhu, Xinhua The Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers 2010 p.155-165
Progress of High-k Dielectrics Applicable to SONOS-Type Nonvolatile Semiconductor Memories
Zhenjie Tang, Zhiguo Liu,Xinhua Zhu 한국전기전자재료학회 2010 p.155-165
Etching Characteristics of HfAlO3 Thin Films Using an Cl2/BCl3/Ar Inductively Coupled Plasma
Ha, Tae-Kyung, Woo, Jong-Chang,Kim, Chang-Il The Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers 2010 p.166-169
Etching Characteristics of HfAlO3 Thin Films Using an Cl2/BCl3/Ar Inductively Coupled Plasma
하태경, 우종창,김창일 한국전기전자재료학회 2010 p.166-169
Photoluminescence of Nanocrystalline CdS Thin Films Prepared by Chemical Bath Deposition
Park, Wug-Dong The Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers 2010 p.170-173
Photoluminescence of Nanocrystalline CdS Thin Films Prepared by Chemical Bath Deposition
박욱동 한국전기전자재료학회 2010 p.170-173
Kang, Dong-Ho, Choi, Jin-Chul,Choi, Jin-Moon,Kim, Tae-Wan The Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers 2010 p.174-177
강동호, 최진철,최진문,김태완 한국전기전자재료학회 2010 p.174-177
SJR(SCImago Journal Rank)는 스페인 Consejo Superior de Investigaciones Cintificas의 Felix de Moya 교수에 의해 개발된 것으로, '모든 인용은 동등하지 않다'는 전제를 기반으로 둔 학술지의 영향력 지수입니다.
구글의 Page Rank 알고리즘의 영향을 받아 전체 인용 네트워크에서 노드에 점수를 매기는 방식으로, 명성이 높은 저널에서의 인용은 고득점으로 평가되어 같은 인용이라도 보다 높게 평가 됩니다. 또한 저널의 주제분야, 질과 명성이 모두 직접 영향을 미치는 평가 지료라고 할 수 있습니다.
Scopus 데이터의 인용정보를 활용하여 산출되며, Scopus에 등재되지 않은 OA 저널평가에도 유용합니다.