최근 hydroxystyrene을 기반으로 한 레진은 3D Nand 공정에 사용되는 후막용 포토레지스트와 페키징용 포토레지스트에 핵심 레진으로 사용됨에 따라 다시 주목을 받고 있는 소재이다. 본 레진의 ...
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2020
-
500
학술저널
116-116(1쪽)
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최근 hydroxystyrene을 기반으로 한 레진은 3D Nand 공정에 사용되는 후막용 포토레지스트와 페키징용 포토레지스트에 핵심 레진으로 사용됨에 따라 다시 주목을 받고 있는 소재이다. 본 레진의 ...
최근 hydroxystyrene을 기반으로 한 레진은 3D Nand 공정에 사용되는 후막용 포토레지스트와 페키징용 포토레지스트에 핵심 레진으로 사용됨에 따라 다시 주목을 받고 있는 소재이다. 본 레진의 제조 공정은 프리라디칼 중합방법, 음이온 중합방법 그리고 리빙 라디칼 중합방법으로 나눌 수 있다. 중합방법의 선정은 공중합 모노머 또는 사용 용도의해 결정된다고 할 수 있다. 본 발표에서는 레진의 중합 방법과 그에 따른 물성에 대해 다룰 예정이다.
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