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      A Study on the Oxidation of Cobalt Film

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      다국어 초록 (Multilingual Abstract)

      The kinetics of the oxidation of Cobalt films have been studied using quartz microbalance from 600℃ to 900℃ under various oxygen pressures. The oxidations followed the parabolic rate law in all caces and the parabolic rate constant varied apporxi...

      The kinetics of the oxidation of Cobalt films have been studied using quartz microbalance from 600℃ to 900℃ under various oxygen pressures.
      The oxidations followed the parabolic rate law in all caces and the parabolic rate constant varied apporximately from 1.64×10^-12 to 1.11×10^-11 (g/cm^2)^2 sec^-1
      The activation energies calculated from the plots of log K_p vs. 1/T varied between 0.08 eV and 0.3 eV in the above conditions.
      The 1/n values obtained from the plots of log K_p vs log Po_2 (or log K_p=1/n log Po_2) are about 1/5 to 1/3.7.
      The mechanism for the oxidation of the Cobalt film is discussed in accordance with other mechanisms such as nonstoichiometric mechanism, diffusion mechanism, and conduction mechanism, etc.

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      목차 (Table of Contents)

      • Ⅰ. 緖 論
      • Ⅱ. 實 驗
      • Ⅲ. 結果 및 考察
      • Ⅳ. 結 論
      • 參考文獻
      • Ⅰ. 緖 論
      • Ⅱ. 實 驗
      • Ⅲ. 結果 및 考察
      • Ⅳ. 結 論
      • 參考文獻
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