- ABSTRACT
- Ⅰ. 서론
- Ⅱ. 본론
- Ⅲ. 결론
- 참고 문헌
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1987
Korean
560
학술저널
1077-1080(4쪽)
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Remote Plasma Enhanced CVD에 의한 수소화된 비정질 실리콘 박막의 제작 및 특성 연구
REOXIDATION법을 이용한 Si WAFER의 HOLE TRAP의 제거