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      스크린 프린팅 적용을 위한 패널 평탄도와 BM 일치성의 공정능력 분석 = Capability Analysis of Consistency with Panel Flatness & Black Matrix for Screen Printing

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      https://www.riss.kr/link?id=A76453136

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      다국어 초록 (Multilingual Abstract)

      A new display device is required, which has concepts of flatness and slimness. FED can be one of the solutions. When we use flat panel, we can save the raw material and reduce the production time by eliminating the printing process, drying process, an...

      A new display device is required, which has concepts of flatness and slimness. FED can be one of the solutions. When we use flat panel, we can save the raw material and reduce the production time by eliminating the printing process, drying process, and washing process. In this case, good panel flatness and consistency with panel flatness and black matrix is the precondition. Therefor, we analyzed process capability of panel flatness and regression between panel flatness and BM position by experiments.

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      목차 (Table of Contents)

      • Astract
      • 1. 연구의 배경 및 목적
      • 2. 상판 패널 제조 공정
      • 3. 패널 평탄도 분석
      • 4. BM 폭 자료 분석
      • Astract
      • 1. 연구의 배경 및 목적
      • 2. 상판 패널 제조 공정
      • 3. 패널 평탄도 분석
      • 4. BM 폭 자료 분석
      • 5. 평탄도와 BM 위치간의 회귀분석
      • 5. 결론
      • 참고문헌
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      참고문헌 (Reference)

      1 "PDP 제조공정의 설비초기관리" 1 : 217-231, 1999

      1 "PDP 제조공정의 설비초기관리" 1 : 217-231, 1999

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      2027 평가예정 재인증평가 신청대상 (재인증)
      2021-11-29 학회명변경 영문명 : 미등록 -> KOREAN SOCIETY OF INDUSTRIAL AND SYSTEMS ENGINEERING KCI등재
      2021-11-25 학술지명변경 외국어명 : Journal of Society of Korea Industrial and Systems Engineering -> Journal of Korean Society of Industrial and Systems Engineering KCI등재
      2021-01-01 평가 등재학술지 유지 (재인증) KCI등재
      2019-12-04 학술지명변경 한글명 : 산업경영시스템학회지 -> 한국산업경영시스템학회지
      외국어명 : Journal of the Society of Korea Industrial and Systems Engineering -> Journal of Society of Korea Industrial and Systems Engineering      		 KCI등재
      2018-01-01 평가 등재학술지 유지 (등재유지) KCI등재
      2015-01-01 평가 등재학술지 유지 (등재유지) KCI등재
      2011-01-01 평가 등재학술지 유지 (등재유지) KCI등재
      2009-01-01 평가 등재학술지 유지 (등재유지) KCI등재
      2006-01-01 평가 등재학술지 선정 (등재후보2차) KCI등재
      2005-01-01 평가 등재후보 1차 PASS (등재후보1차) KCI등재후보
      2003-07-01 평가 등재후보학술지 선정 (신규평가) KCI등재후보
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      학술지 인용정보

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      기준연도 WOS-KCI 통합IF(2년) KCIF(2년) KCIF(3년)
      2016 0.34 0.34 0.3
      KCIF(4년) KCIF(5년) 중심성지수(3년) 즉시성지수
      0.28 0.28 0.37 0.16
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