다이아조기 기반의 저온 가교제를 이용한 양자점의 간접적인 광패터닝 공정 연구 = Crosslinking-assisted indirect photopatterning of quantum dots using diazo group based low-temperature crosslinker

목차 (Table of Contents)

• 1. 서론 1
• 1.1. 연구 배경 1
• 1.2. 이론적 배경 3
• 1.2.1. 양자점과 포토리소그래피 3
• 1.2.2. 리프트-오프 패터닝 기법 4
• 1.2.3. 다이아조기 기반의 저온 가교제를 이용한 양자점의 간접적인 광패터닝 기법 5
• 2. 실험 방법 7
• 2.1. 실험재료 7
• 2.2. 양자점의 패터닝 8
• 2.2.1. 포토레지스트의 포토리소그래피 8
• 2.2.2. 다이아조기 기반의 저온 가교제를 이용한 양자점의 간접적인 광패터닝 기법 9
• 2.2.3. 양자점의 직접적인 광패터닝 11
• 2.3. 양자점 전계발광소자 제작 12
• 2.4. 측정 및 분석 13
• 3. 결과 및 고찰 14
• 3.1. 양자점의 간접적인 광패터닝 공정을 위한 저온 가교제의 분석 14
• 3.1.1. 다이아조기 기반의 저온 가교제를 이용한 양자점의 간접적인 광패터닝 공정 14
• 3.1.2. 열처리 온도에 따른 포토레지스트 필름의 용해도 분석 16
• 3.1.3. 다이아조기 기반의 저온 가교제의 분석 18
• 3.2. 다이아조기 기반의 저온 가교제를 이용한 양자점의 간접적인 광패터닝 공정의 충실도와 두께 분석 22
• 3.2.1. 양자점 패턴의 충실도 분석 22
• 3.2.2. 양자점 패턴의 두께 분석 28
• 3.3. 다이아조기 기반의 저온 가교제를 이용한 간접적인 광패터닝 공정을 통해 얻은 양자점 패턴의 분석 31
• 3.3.1. 단색 양자점 패턴의 분석 31
• 3.3.2. 다색 양자점 패턴의 분석 34
• 3.4. 저온 가교제를 도입한 양자점 필름의 발광 특성 분석 37
• 3.4.1. 가교된 양자점 필름의 광발광 특성 분석 37
• 3.4.2. 가교된 양자점 필름의 전계발광 특성 분석 42
• 4. 결론 46
• 참고문헌 47