고구려(高句麗) 유민(遺民) 이타인(李他仁)의 족원(族源)과 책성(柵城) 욕살(褥薩) 수여(授與) 배경에 대한 고찰 = A consider of the Background of Chaek Castle castellan`s award and ethnic origin of Lee Ta-in who was the displaced people of Goguryeo

국문 초록 (Abstract)

李他仁은 高句麗 말기 柵城 褥薩이었다. 그동안 그의 族源에 대해서는 다양한 견해들이 제시되었다. 본고에서는 이타인의 족원을 고찰하고자, 고구려의 李氏姓 존재여부에 대해 검토하였다. 그 과정에서 600년 ?陽王의 명령으로 『新集』을 편찬한 李文眞의 존재와 渤海의 李氏들에 주목하여 고구려에 이씨성이 존재하였음을 입증하였다.
그리고 唐의 `賜姓李氏` 사례와 唐에서 활동한 李氏姓 고구려 遺民들의 특징을 비교한 결과 고구려에서 독자적인 `賜姓李氏`가 있던 것으로 파악하였다. 이를 기반으로 「李他仁墓誌銘」에 기재된 문구 및 고구려와 말갈의 관계를 분석하여 이타인은 고구려로부터 `사성이씨` 된 고구려인임을 확인하였다.
마지막으로 이타인이 책성 욕살에 수여된 배경에 대해 642년에 발발했던 淵蓋蘇文의 정변에 주목하였다. 여기에 高質 一家와의 비교를 통해 이타인 일가가 연개소문의 정변에 공적을 세운 까닭에 柵城 褥薩이 될 수 있던 것으로 추론하였다.

다국어 초록 (Multilingual Abstract)

Lee Ta-in was the Chaek Castle castellan at the end of the Goguryeo. In the meantime, various opinions have been raised about his ethnic origin. In this article I examine the existence of the Lee family in the Goguryeo to investigate the ethnic origin of the Lee Ta-in. In the process, I prove that there existed last name Lee in Goguryeo by paying attention to the existence of Lee Moon-jin who made a 『Sinjip』 by the King Yeongyang order in the 600th year and last name Lee in Balhae.
And a comparison of the characteristics of Tang`s "give last name Lee" and displaced people of Goguryeo of last name Lee who were active in the Tang proved that there existed a unique "give last name Lee" in Goguryeo. Based on this analysis, I analyzed the phrases written in 「Lee Ta-in`s Epitaph」 and analyzed the relationship between Goguryeo and Malgal, and confirmed that Lee Ta-inwas an Goguryeon who was "give last name Lee" from Goguryeo Finally it paid attention to revolution of Yeon Gaesomun which originated in 642 about the Background awarded to Chaek Castle castellan of Lee Ta-in. In comparison with the Go Jil family, I could deduce that Lee Ta-in family was able to receive the last name Lee because the Lee Ta-in family established considerable achievements in the revolution of the Yeon Gaesomun.
(Researcher Of ELEVEN R&D Institute / [e-mail])