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대기압 플라즈마를 이용하여 증착된 SiO₂ 무기 박막의 특성
길엘리,박재범,오종식,염근영 한국표면공학회 2010 한국표면공학회 학술발표회 초록집 Vol.2010 No.5
Silicon dioxide (SiO₂) 박막이 높은 밀도의 플라즈마를 발생시킬 수 있는 modified pin-to-plate dielectric barrier discharge (DBD) 시스템을 이용하여 증착되었다. Silicon precursor로 HMDS가 사용되었으며 HMDS/O₂/He/Ar의 gas mixture가 SiO₂ films에 미치는 영향이 조사되었다.