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      • 류마티스 관절염 환자에서 활막세포에 대한 항류마티스제 bucillamine[N-(2-mercapto-2-methylpropanoy1)-L-cysteine]의 영향

        김성윤 한양대학교 대학원 1998 국내박사

        RANK : 247663

        류마티스 관절염은 원인불명의 자가면역성 만성관절염이다. 류마티스 관절염은 조직학적으로 활막세포가 증식하는 특징을 갖는데, 여러가지 싸이토카인, 특히 종양괴사인자(TNF-)가 활막세포의 증식에 중요한 역할을 한다. Nuclear factor B(NF-B)는 급성기반응, 염증반응, 면역반응, 그리고 세포의 발달 및 분화에 관여하는 광범위한 유전자의 발현을 촉진하는 전사인자이다. 특히, 류마티스 관절염의 병인에 관여하는 것으로 알려져 있는 TNF-, interleukin-6, 그리고 intercellular adhesion molecule 1등의 발현을 촉진한다. 또한, 이렇게 발현하여 증가된 TNF-에 의해 NF-B가 활성화되어 활막세포가 증식하고 염증반응이 연쇄적으로 발생하게 된다. 그러므로 NF-B의 활성화를 억제하는 것이 염증 및 면역성 질환을 치료하는 한 방법이 될 수 있다. 코르티코스테로이드와 면역억제제인 cyclosporine A뿐만 아니라 아스피린과 금화합물이 NF-B의 활성화를 억제하는 것으로 보고되어 이 약제들의 항류마티스 작용이 NF-B와 연관되어 있다고 이해할 수 있다. Bucillamine은 D-penicillamine과 유사한 구조를 가지고 있으나 하나의 황화수소기를 가진 D-penicillamine과 달리 2개의 황화수소기를 가지고 있는 것이 다르다. 이로 인해 D-penicillamine과 다른 독특한 특성을 보이기도 하는데, T임파구와 B임파구의 기능을 억제하며, 동물모델과 시험관실험에서 활막세포의 증식을 억제하는 것으로 알려져 있다. 제2형콜라겐유도관절염과 MRL/l mice에서 bucillamine은 선택적으로 활막세포에 작용하여 활막세포의 증식을 억제하는 것으로 추측된다. 따라서 본 연구에서는 bucillamine이 TNF-에 의해 유도된 활막세포의 증식과 NF-B의 활성화에 미치는 영향을 조사하였다. 류마티스 관절염으로 슬관절의 전치환대치술을 받는 환자에서 활막조직을 얻어 활막세포를 분리한 다음 배양하였다. 실험에는 4 ~ 7차 계대배양한 활막세포를 사용하였다. Bucillamine이 활막세포의 증식에 미치는 영향은 활막세포를 96 multiwell plate에 분주하여 배양하고, 생존세포에서 미토콘드리아 탈수소효소에 의해 tetrazolium염인 XTT {sodium 3’-[1-(phenylaminocarbonyl)-3,4-tetrazolium]-bis (4-methoxy-6-nitro) benzene sulfonic acid hydrate}가 formazan으로 대사되는 것을 분광광도계로 측정하여 분석하였다. 활막세포에서 핵추출물을 얻은 후 NF-B의 결합연쇄를 포함한 이중쇄의 oligonucleotide를 digoxigenin(DIG)으로 표지한 후 반응시켰다. 전기영동 이동성변위분석(electrophoretic mobility shift assay)과 DIG세척 및 탐지세트를 이용하여 TNF-에 의한 NF-B의 활성화와 이에 대한 bucillamine의 영향을 분석하였다. NF-B와 소식자간의 결합의 특이성은 과량의 표지되지 않은 NF-B 또는 oct-1의 oligonucleotide를 첨가하여 조사하였다. 1) 활막세포는 TNF-의 농도에 따라 증식하였고 bucillamine은 TNF-에 의해 유도되었던 활막세포의 증식을 억제하였다. 이 때 사용한 bucillamine (30g/ml)은 활막세포의 생활력에는 영향을 미치지 않았다. 2) 전기영동 이동성변위분석을 이용하여 NF-B의 활성을 조사한 바 TNF-에 의해 NF-B가 활성화되었으며, NF-B와 소식자간의 결합은 특이적이었다. TNF-에 의해 활성화된 NF-B는 bucillamine에 의해 억제되었다. 결론적으로, 류마티스 관절염의 치료에 효과적인 bucillamine은 TNF-에 의해 유도된 활막세포의 증식을 억제하였으며, 활막세포의 증식에 중요한 역할을 하는 NF-B의 활성화도 억제하였다. Bucillamine은 NF-B의 활성화를 억제함으로써 활막세포의 증식을 억제할 것으로 생각되며, 이것이 류마티스 관절염을 호전시키는 한 기전으로 생각된다. 향후 bucillamine이 NF-B의 핵내이동을 억제하는 것인지, 아니면 DNA와의 결합을 억제하는 것인지 규명해야 하며, bucillamine의 대사물들은 어떠한 영향을 미치는지 연구되어야 할 것으로 사료된다.

      • 전이원소가 도핑된 Cu12-xTrxSb4S13계 테트라헤드라이트의 고상합성 및 열전특성

        김성윤 한국교통대학교 일반대학원 2020 국내석사

        RANK : 247647

        열전재료 테트라헤드라이트(tetrahedrite, Cu12Sb4S13)를 기계적 합금화 및 열간 압축성형으로 제작하였고, 전이원소(Ni, Co, Fe, Mn) 도핑에 따른 열전특성을 조사하였다. 용융 합성 방법으로는 테트라헤드라이트 성분 원소의 휘발 억제와 균질화를 위하여 정교하고 오랜 시간의 공정이 요구된다. 따라서 본 연구에서는 고상합성의 일종인 기계적 합금화를 통해 테트라헤드라이트 상합성 공정시간을 단축하고자 하였다. 테트라헤드라이트 구조에서 12 개의 Cu 원자는 10 개의 Cu2+와 2 개의 Cu+의 산화 상태로 존재한다. Cu+ 원자를 2+가 또는 3+가의 산화 상태를 갖는 전이원소로 부분 치환(도핑)을 통해 전하 운반자 농도를 최적화시키며, 높은 출력인자를 얻는 동시에 열전도도를 감소시킴으로써 향상된 열전 성능을 기대하였다. 성분 원소의 휘발을 억제하고 테트라헤드라이트의 상합성을 위한 기계적 합금화 합성 조건을 연구하였다. Cu12Sb4S13 화학양론 조성에 맞게 칭량된 원소 분말을 유성 볼밀에 장입하여 300∼400 rpm의 회전속도로 12∼48 시간 기계적 합금화를 진행한 결과 350 rpm의 회전속도로 24 시간 만에 잔류 원소와 이차상 없이 테트라헤드라이트 단일상을 성공적으로 합성하였다. 합 성된 Cu12Sb4S13 분말을 673∼773 K의 온도에서 70 MPa의 압력으로 2 시간 열간 압축성형을 진행한 결과 723 K에서 압축성형한 소결체가 가장 높은 무차원 열전 성능지수, ZT = 0.87을 나타내었다. 테트라헤드라이트의 Cu 자리에 전이원소를 도핑한 Cu12-xTrxSb4S13(Tr = Ni, Co, Fe, Mn)을 기계적 합금화 및 열간 압축 성형하였다. 후속 열처리 없이 테트라헤드라이트 단일상이 합성되었고, 98.1∼100.0%의 높은 상대 밀도를 갖는 치밀한 소결체를 얻었다. Cu+의 이온 반경(60 pm)보다 작은 이온 반경을 갖는 Ni2+(55 pm)가 치환된 경우 격자상수가 감소하였고, 비교적 큰 이온 반경을 갖는 Mn2+(66 pm)가 치환된 경우 격자상수가 증가하였다. 그러나 Cu+보다 작은 이온 반경을 갖는 Co2+(58 pm)는 Cu2+(57 pm)의 자리에도 부분적으로 치환되어 격자상수를 증가시켰고, Fe3+(49 pm)가 치환된 경우에도 Fe2+와 Cu2+의 조합보다 Fe3+와 Cu+의 조합이 더 안정적이므로 Cu2+보다 더 큰 이온 반경을 갖는 Cu+ 이온의 수가 늘어나 격자상수를 증가시켰다. 모든 시편의 제벡계수는 양의 값을 보였으며, 이는 주된 전하 운반자가 정공(hole)인 p형 반도체임을 시사한다. 본 연구의 측정 온도 범위는 진성 천이 온도를 넘지 않아 온도 증가에 따라 제벡계수가 증가하였다. Cu+ 자리에 2+가 또는 3+가의 전이원소가 치환되면서 잉여 전자가 공급된다. 따라서 전이원소 도핑량이 증가하면 정공의 농도가 감소하여 전하 운반자의 농도가 감소한다. 그로 인해 Ni, Co 및 Fe이 도핑된 테트라헤드라이트의 경우 도핑량이 증가할수록 제벡계수가 증가하였다. 그러나 Mn이 도핑된 테트라헤드라이트의 경우 도핑량이 증가할수록 제벡계수가 감소하였다. 전기전도도는 온도 증가에 따라 미세하게 증가하는 비축퇴 반도체의 거동을 보였다. 제벡계수와 반대로 전기전도도는 전하 운반자 농도와 비례 관계이며, Ni, Co 및 Fe이 도핑된 테트라헤드라이트에서 도핑량이 증가함에 따라 전기전도도가 감소하였다. 그러나 Mn이 도핑된 테트라헤드라이트의 경우 도핑량이 증가함에 따라 전기전도도가 증가하였다. 출력인자는 온도 증가에 따라 증가하였고, 이는 제벡계수와 전기전도도의 온도 의존성 때문이다. 출력인자는 제벡계수의 제곱과 전기전도도의 곱으로 표현된다. 그러나 전하 운반자 농도는 제벡계수와 반비례 관계이고, 전기전도도와는 비례 관계이므로 높은 출력인자를 얻으려면 전하 운반자 농도의 최적화가 요구된다. 본 연구에서 나타난 출력인자는 제벡계수의 영향보다 전기전도도의 영향이 우세하여, Ni, Co 및 Fe 도핑량이 증가함에 따라 출력인자가 감소하였다. 그러나 Mn이 도핑된 테트라헤드라이트의 경우 도핑량이 증가할수록 출력인자가 증가하였다. 열전도도는 격자 열전도도와 전자 열전도도의 합이며 전자 열전도도는 전기전도도(전하 운반자 농도)에 비례한다. 따라서 Ni, Co 및 Fe 도핑량의 증가에 따라 전자 열전도도가 감소하였다. 또한 도펀트에 의한 이온화 불순물의 산란이 강화되어 격자 열전도도가 감소하였다. 그러나 Mn이 도핑된 테트라헤드라이트의 경우 도핑량이 증가함에 따라 전자 및 격자 열전도도 모두 증가하여 전체 열전도도가 증가하였다. 무차원 열전 성능지수는 온도 증가에 따라 증가하였고, 이는 전이원소 도핑으로 인해 높은 수준으로 유지된 출력인자와 감소된 열전도도의 결과이다. Cu11.8Ni0.2Sb4S13과 Cu11.8Co0.2Sb4S13이 Cu12Sb4S13보다 증가한 ZT를 보였으며, Cu11.8Ni0.2Sb4S13은 723 K에서 ZT = 0.92와 Cu11.8Co0.2Sb4S13은 723 K에서 ZT = 0.94를 달성하였다. 그리고 Cu11.8Fe0.2Sb4S13의 경우 723 K에서 ZT = 0.80과 Cu11.7Mn0.3Sb4S13은 723 K에서 ZT = 0.75를 얻었다.

      • Heteroleptic Titanium Precursor를 이용한 Titanium Dioxide 박막의 원자층 증착에 관한 연구

        김성윤 세종대학교 대학원 2018 국내석사

        RANK : 247647

        Dynamic Random Access Memory (DRAM) 소자의 미세화를 위해서는 capacitor의 유전용량이 충분히 유지되어야 한다. 이를 위해서 3차원 구조를 도입하여 전극면적을 유지하는 동시에 유전상수가 높은 물질(high-k)을 도입하고 있다. 원자층증착법 (ALD)은 고 종횡비의 capacitor 구조에서 충분한 step coverage 특성을 얻을 수 있기 때문에 high-K 및 전극물질의 증착방법으로 사용되고 있다. Capacitor 유전층 (dielectric layer) 물질로는 등가산화막 두께(tox)를 감소시키면서도 물리적인 두께를 유지하기 위해 점점 유전상수가 높은 물질이 도입되고 있다. TiO2는 차세대 high-k 물질로 주목받고 있으며 고품질의 TiO2 박막을 ALD 공정으로 제조하기 위해 많은 연구가 진행중이다. 기존 ALD TiO2에 사용되는 homoleptic 구조의 Ti precursor는 낮은 열안정성으로 인하여 ALD 공정 온도가 낮아 TiO2 박막의 특성이 좋지 않은 문제가 있다. 최근 열안정성을 높인 heteroleptic 구조의 precursor들도 보고되고 있으나 비교적 큰 ligand를 포함하고 있어서 충분한 증기압을 갖지 못하거나 박막성장 속도가 낮은 문제가 있다. 따라서 높은 온도에서 박막특성과 step coverage가 우수한 TiO2 박막을 형성할 수 있는 신규 Ti precursor 및 ALD 공정 개발이 필요하다. 본 학위논문에서는 cyclopentadienyl (Cp)와 dimethylamine (NMe2)가 연결된 ligand를 갖는 heteroleptic 구조의 액상 Ti precursor [2-(N-methylamino) 1-methyl ethyl cyclopentadienyl] bis(dimethylamino) titanium (CMENTTM)를 사용하여 ALD 공정과 TiO2 박막의 특성을 연구하였다. Ozone (O3)을 산화제 (oxidizing agent)로 사용했을 경우 ALD 공정온도인 325℃에서는 0.82±0.02 Å/cycle 박막 성장속도를 갖는 self-limiting reaction이 관찰되었다. 박막내 불순물 함량은 매우 낮았고, 95% 이상의 step coverage와 4.02 g/cm3의 박막밀도를 나타났다. 공정온도 375℃에서는 Ti precursor 공급시간의 증가에 따라 precursor의 열분해에 의해 growth per cycle (GPC)가 계속 증가하였다. 이로 인한 박막 내 불순물 증가는 없었고 밀도는 4.12 g/cm3로 향상되었으나 step coverage 특성은 크게 열화되었다. Oxidizing agent로 H2O를 사용할 경우에도 ALD 증착특성과 박막의 밀도는 O3를 사용한 경우와 거의 같았고 누설전류는 다소 향상되었다. CMENTTM과의 비교를 위해 기존 Ti precursor인 tetrakis(dimethylamino)titanium (Ti(NMe2)4), TDMAT)을 이용하여 ALD TiO2 박막을 제조하였다. TDMAT으로 ALD 공정이 가능한 210℃에서는 3.91 g/cm3로 낮은 밀도를 나타내었다. 그러나, 325℃에서는 TDMAT의 열분해로 인해 GPC가 20 Å/cycle 로 크게 증가하였고, 20%의 낮은 step coverage와 높은 불순물 함량을 나타내었다. 이에 따라 박막의 밀도는 3.71 g/cm3으로 저하되고 전류밀도가 5.3×10-3 A/cm2로 증가하였다. 이상의 결과를 통하여 새로운 구조의 heteroleptic Ti precursor인 CMENTTM가 우수한 열안정성을 가지고 있으며, 이를 사용한 고온 ALD TiO2공정을 통해 박막의 물리적, 화학적, 전기적 특성과 함께 step coverage를 향상시킬 수 있었다. For the miniaturization of a dynamic random access memory (DRAM) device, the capacitance of the capacitor must be sufficiently maintained. For this purpose, three-dimensional structures were introduced to maintain the electrode area, and high-k materials have been adopted. Atomic layer deposition (ALD) is used as a deposition method for high-K and electrode materials because it can obtain sufficient step coverage over high-aspect-ratio capacitor structures. As dielectric layer materials, materials with increasingly higher dielectric constants are sequentially introduced to reduce the equivalent oxide thickness (tox) while maintaining the physical thickness. TiO2 is attracting attention as a next-generation high-k material, and many studies are underway to manufacture high-quality TiO2 thin films by ALD process. The homoleptic Ti precursors used in the conventional ALD TiO2 processes showed low ALD process temperatures due to their insufficient thermal stability, resulting in poor film quality. Recently, heteroleptic precursors with improved thermal stability have been reported, but they contain relatively large ligands and thus do not have sufficient vapor pressure or show low growth rate. Therefore, it is necessary to develop new Ti precursor and ALD process which can prepare high-quality ALD TiO2 thin film at high temperature with excellent step coverage. In this thesis, a heteroleptic Ti precursor, [2-(N-methylamino) 1-methyl ethyl cyclopentadienyl] bis(dimethylamino) titanium (CMENTTM), was used to study ALD TiO2 process. CMENTTM has a cyclopentadienyl ligand linked to dimethylamine and is a liquid at room temperature. When ozone was used as an oxidizing agent, a self-limiting growth was observed at 325℃ with a GPC of 0.82±0.02 Å/cycle. ALD TiO2 prepared at 325℃ showed very low impurity content and exhibited step coverage more than 95% and a density of 4.02 g/cm3. At the temperature of 375℃, the growth per cycle was increased with increasing Ti precursor feeding time due to the thermal decomposition of the precursor. There was no increase of impurities in the film, and the density was improved to 4.12 g / cm3, but the step coverage was greatly degraded. When H2O was used as an oxidizing agent, the ALD deposition characteristics and the density of the thin film were almost the same as those in the case of using O3, and the leakage current was slightly reduced. For comparison with CMENTTM, ALD TiO2 films were also fabricated using Ti (NMe2)4 (TDMAT), a conventional Ti precursor. The ALD film prepared using TDMAT exhibited a low film density of 3.91 g/cm3 at 210°C, at which the growth is self-limited. However, at 325℃, the thermal decomposition of TDMAT significantly increased the GPC to 20 Å/cycle, and the deposited film showed a poor step coverage of 20% and a high impurity content. As a result, the density of the thin film was reduced to 3.71 g/cm3, and the current density was greatly increased. These results show that CMENTTM, a Ti precursor with a novel structure, has excellent thermal stability and can improve the step coverage as well as physical and electrical properties of the TiO2 thin film through the high-temperature ALD TiO2 process using it.

      • 키토산-수산화인회석 차폐막이 골재생에 미치는 영향

        김성윤 원광대학교 2009 국내박사

        RANK : 247631

        본 연구에서는 인위적으로 형성한 가토의 골결손부(직경 5mm)에 시행한 키토산-수산화인회석 흡수성 차폐막을 이용한 골유도재생술의 골재생능력에 대해 조사하였다. 가토 5마리의 두개골에 4개의 결손부를 형성하였다. 대조군은 결손부내에 어떠한 이식재도 충전하지 않았다. 실험 1군은 키토산-수산화인회석 차폐막으로 피개하였다. 실험 2군은 키토산-수산화인회석 차폐막을 결손부내에 이식하였다. 실험 3군은 PLGA(poly(lactic-co-glycolic acid)) 흡수성 차폐막으로 피개하였다. 실험동물들은 차폐막 이식 4주 후에 희생시켰으며 광학현미경으로 관찰하여 조직학적 분석을 시행하였다. 키토산-수산화인회석 흡수성 차폐막과 PLGA 흡수성 차폐막에서의 신생골 형성은 대조군에 비해 제한적으로 나타났다. 키토산-수산화인회석 흡수성 차폐막의 유지기능은 입증되었으나 골형성은 기대만큼 일어나지 않았다. 두 막의 생물학적 흡수는 이식 후 4주경에 일어났다. 가토의 두개골 결손모델에서의 키토산-수산화인회석 흡수성 차폐막과 PLGA 흡수성 차폐막의 비교는 임상적용에 대한 지표로 작용할 것이다. The purpose of this study was to investigate the bone forming effect of the guided bone regeneration by a chitosan-hydroxyapatite absorbable membrane applied to surgically created bone defects(diameter-5mm) in rabbits. Four defects were surgically created in cranium of five rabbits. The control group was not treated with any graft. The experimental 1 group was treated with chitosan-hydroxyapatite absorbable membrane. The experimental 2 group was treated within the defects that filled with chitosan-hydroxyapatite absorbable membrane. The experimental 3 group was treated with PLGA(poly(lactic-co-glycolic acid)) absorbable membrane. The animals were sacrificed at 4 weeks after implantation of the membranes. The histologic observation was made under optical microscope. Result showed the limited new bone formation of chitosan-hydroxyapatite absorbable membrane and PLGA absorbable membrane than that of control. The chitosan-hydroxyapatite absorbable membrane can provide the function of support, but bone formation was not achived than that of expected. Biological resorption of both membrane occur at 4 weeks after implantation. This in-vivo, comparison of chitosan-hydroxyapatite absorbable membrane and PLGA absorbable membrane in rabbit calvarial defect model may act as a guide in the use of these products in human applications.

      • 섬애쑥 추출물이 항산화 활성 및 피부노화에 미치는 영향

        김성윤 대전대학교 2020 국내석사

        RANK : 247631

        ABSTRACT Effect of Artemisia Argyi H Extract on Antioxidant Activity and Antiaging in Skin Sung-Yoon Kim Dept. of Beauty Medicine The Graduate School of Health and Medicine, Daejeon University (Supervised by Prof. Mi-Hye Lim) The antioxidant activity of Artemisia argyi H. extracts were studied as a natural cosmetic material and its effect on skin aging. I measured DPPH radical scavenging effect and ABTS radical scavenging effect for an experiment about antioxidant. In addition, to find out the effect of Artemisia argyi H. extract on skin aging, I cultured CCD-986Sk cells and measured cell viability, measured the amount of gene expression and the amount of MMP-1, MMP-9, TIMP-1, Type Ⅰ pro-collagen, and Hyaluronic acid biomaca in the cells. The following results were obtained for this. 1. I extracted Artemisia argyi H. with distilled water (AAD) and ethanol (AAE) and using the two extracts showed significant results, but the Artemisia argyi H. extract using ethanol was particularly fine results appeared. 2. As the results of the first experiment of DPPH radical scavenging effect to examine the antioxidant effect of the Artemisia argyi H. extract, the highest DPPH radical scavenging effect activity was showed 91.1 ± 3.1 at concentration 1,000 ㎍/㎖ of distilled water extract (AAD) and 91.3±0.3 at concentration 1,000 ㎍/㎖ of ethanol extract (AAE). 3. As the results of the second experiment of ABTS radical scavenging effect to examine the antioxidant effect of the Artemisia argyi H. extract, the highest ABTS radical scavenging effect activity was showed 94.7±0.1 at concentration 1,000 ㎍/㎖ of distilled water extract (AAD) and 94.9±0.1 at concentration 1,000 ㎍/㎖ of ethanol extract (AAE). 4. As a result of measuring the CCD-986Sk cell viability of the Artemisia argyi H. extract, the distilled water extract (AAD) and the ethanol extract (AAE) showed an 100% or more CCD-986Sk cell viability at 200 ㎍/㎖. At a concentration of 200 ㎍/㎖ or more, the CCD-986Sk cell viability was found to decrease. Therefore, using CCD-986Sk cells, the concentration of Artemisia argyi H. extract was used up to 200 ㎍/㎖. 5. As a result of the first expression of MMP-1 gene in the experiment to find out improvement effect on skin wrinkles of Artemisia argyi H., the expression of MMP-1 gene was found to decrease 0.26 ± 0.04 at a concentration of distilled water extract (AAD) of 200 ㎍/㎖ and 0.30 ± 0.07 at the concentration of ethanol extract (AAE) of 200 ㎍/㎖. 6. As a result of the expression of MMP-9 gene in the second experiment to find out improvement effect on skin wrinkles of Artemisia argyi H., the expression of MMP-9 gene was found to decrease 0.37±0.02 at a concentration of distilled water extract (AAD) of 200 ㎍/㎖ and 0.42±0.02 at the concentration of ethanol extract (AAE) of 200 ㎍/㎖. 7. As a result of the expression of TIMP-1 gene in the third experiment to find out improvement effect on skin wrinkles of Artemisia argyi H., the expression of TIMP-1 gene was found to increase 1.72±0.13 at a concentration of distilled water extract (AAD) of 200 ㎍/㎖ and 1.64±0.03 at the concentration of ethanol extract (AAE) of 200 ㎍/㎖. 8. As a result of the expression of Type Ⅰ pro-collagen gene in the first experiment to find out effect on skin firming of Artemisia argyi H., the expression of Type Ⅰ pro-collagen gene was found to increase 1.68±0.07 at a concentration of distilled water extract (AAD) of 200 ㎍/㎖ and 1.65±0.09 at the concentration of ethanol extract (AAE) of 200 ㎍/㎖. 9. As a result of the expression of HAS1 gene in the second experiment to find out effect on skin firming of Artemisia argyi H., the expression of HAS1 gene was found to increase 4.00±0.09 at a concentration of distilled water extract (AAD) of 200 ㎍/㎖ and 3.94±0.06 at the concentration of ethanol extract (AAE) of 200 ㎍/㎖. 10. As a result of the expression of HYAL1 gene in the third experiment to find out effect on skin firming of Artemisia argyi H., the expression of HYAL1 gene was found to increase 0.08±0.04 at a concentration of distilled water extract (AAD) of 200 ㎍/㎖ and 0.09±0.05 at the concentration of ethanol extract (AAE) of 200 ㎍/㎖. 11. As a result of amount of generated MMP-1 gene in the first experiment of the amount of generated biomaca in cells to find out the improvement effect on skin wrinkles of Artemisia argyi H., the generation of MMP-1 gene was found to decrease 67.2±7.4 at a concentration of distilled water extract (AAD) of 200 ㎍/㎖ and 74.8±9.6 at the concentration of ethanol extract (AAE) of 200 ㎍/㎖. 12. As a result of amount of generated MMP-9 gene in the second experiment of the amount of generated biomaca in cells to find out the improvement effect on skin wrinkles of Artemisia argyi H., the generation of MMP-9 gene was found to decrease 29.8±4.1 at a concentration of distilled water extract (AAD) of 200 ㎍/㎖ and 32.1±3.6 at the concentration of ethanol extract (AAE) of 200 ㎍/㎖. 13. As a result of amount of generated TIMP-1 gene in the third experiment of the amount of generated biomaca in cells to find out the improvement effect on skin wrinkles of Artemisia argyi H., the generation of TIMP-1 gene was found to increase 2.03±0.12 at a concentration of distilled water extract (AAD) of 200 ㎍/㎖ and 2.16±0.06 at the concentration of ethanol extract (AAE) of 200 ㎍/㎖. 14. As a result of the amount of generated TIMP-1 gene in the first experiment of biomaca generation in cells to find out improvement effect on skin firming of Artemisia argyi H., the generation of Type Ⅰ pro-collagen gene was found to increase 63.5±4.2 at a concentration of distilled water extract (AAD) of 200 ㎍/㎖ and 55.9±3.6 at the concentration of ethanol extract (AAE) of 200 ㎍/㎖. 15. As a result of the amount of generated Hyaluronic acid(HA) in the second experiment of biomaca generation in cells to find out improvement effect on skin firming of Artemisia argyi H., the generation of Hyaluronic acid(HA) was found to increase 129.0±4.1 at a concentration of distilled water extract (AAD) of 200 ㎍/㎖ and 112.9±2.5 at the concentration of ethanol extract (AAE) of 200 ㎍/㎖. From the above results, it can be understood that the Artemisia argyi H. extract has antioxidant activity and effect of the improved wrinkles, and has a significant effect on skin firming. It is thought that Artemisia argyi H. extract will be a good material as a natural material for skin aging functional cosmetics in the future. In addition, this study is expected that it will be provided as a resource for the development of natural cosmetics.

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